[發(fā)明專利]一種用于快速熱處理設(shè)備的載片臺有效

申請?zhí)枺?/td>	201611015616.1	申請日：	2016-11-18
公開（公告）號：	CN106571321B	公開（公告）日：	2019-12-06
發(fā)明（設(shè)計）人：	鐘新華;胡振東;易文杰;袁衛(wèi)華;彭立波;許波濤	申請（專利權(quán)）人：	中國電子科技集團公司第四十八研究所
主分類號：	H01L21/67	分類號：	H01L21/67;H01L21/687
代理公司：	43008 湖南兆弘專利事務(wù)所(普通合伙)	代理人：	周長清;徐好<國際申請>=<國際公布>=
地址：	410111 湖南***	國省代碼：	湖南;43
權(quán)利要求書：	查看更多	說明書：	查看更多
摘要：
搜索關(guān)鍵詞：	一種用于快速熱處理設(shè)備載片臺
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專利分類

H 電學

H01 基本電氣元件
H01L 半導(dǎo)體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造

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