[發明專利]低軟化點、易于熱成形的化學強化用玻璃基板及其制備方法

在審

• 申請號: 201611013691.4
• 申請日: 2016-11-15
• 公開（公告）號: CN108069596A
• 公開（公告）日: 2018-05-25
• 發明（設計）人: 胡偉;陳芳華;陳振宇;談寶權
• 申請（專利權）人: 深圳市東麗華科技有限公司
• 主分類號: C03C3/097
• 分類號: C03C3/097;C03C3/091;C03C21/00
• 代理公司: 深圳市舜立知識產權代理事務所(普通合伙) 44335
• 代理人: 李亞萍

1.一種低軟化點、易于熱成形的化學強化用玻璃基板，所述低軟化點、易于熱成形的化學強化用玻璃基板的軟化點低于900℃，其特征在于，包括骨干組分和輔助組分，所述骨干組分包括SiO2、Al2O3、Bi2O3、P2O5，所述輔助組分包括堿金屬氧化物，以各組分在所述低軟化點、易于熱成形的化學強化用玻璃中所占的摩爾百分含量計，SiO2占50％～70％、Al2O3占5％～17％、Bi2O3占0.1％～15％，P2O5占0.1％～10％，所述Bi2O3與P2O5總和的摩爾百分含量為2.5％～22％，所述堿金屬氧化物占5％～25％，且所述低軟化點、易于熱成形的化學強化用玻璃為非As材質。

2.根據權利要求1所述的低軟化點、易于熱成形的化學強化用玻璃基板，其特征在于，所述低軟化點、易于熱成形的化學強化用玻璃基板的軟化點低于880℃，所述骨干組份中的Bi2O3的摩爾百分含量為0.1％～5％，P2O5的摩爾百分含量為0.1％～3.5％，Bi2O3與P2O5總和的摩爾百分含量為2.5％～8.5％。

3.根據權利要求1所述的低軟化點、易于熱成形的化學強化用玻璃基板，其特征在于，所述低軟化點、易于熱成形的化學強化用玻璃基板的軟化點低于860℃，所述骨干組份中的Bi2O3的摩爾百分含量為0.1％～5％，P2O5的摩爾百分含量大于3.5％而小于或等于5％，Bi2O3與P2O5總和的摩爾百分含量為3.6％～10％。

4.根據權利要求1所述的低軟化點、易于熱成形的化學強化用玻璃基板，其特征在于，所述低軟化點、易于熱成形的化學強化用玻璃基板的軟化點低于840℃，所述骨干組份中的Bi2O3的摩爾百分含量為0.1％～5％，P2O5的摩爾百分含量大于5％而小于或等于10％，Bi2O3與P2O5總和的摩爾百分含量為5.1％～15％。