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[發(fā)明專利]一種離子遷移譜和離子阱質譜聯(lián)用電離腔體有效

專利信息
申請?zhí)枺?/td> 201611013527.3 申請日: 2016-11-17
公開(公告)號: CN108074795B 公開(公告)日: 2019-07-05
發(fā)明(設計)人: 侯可勇;王爽;李海洋;倉懷文;李東明;王偉民 申請(專利權)人: 中國科學院大連化學物理研究所
主分類號: H01J49/26 分類號: H01J49/26;H01J49/04
代理公司: 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002 代理人: 馬馳
地址: 116023 遼寧省*** 國省代碼: 遼寧;21
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摘要:
搜索關鍵詞: 離子遷移譜 離子阱質譜 電離源 夾管閥 離子門 腔體 出氣口 電離腔 反應區(qū) 進樣口 脈沖式 電離 離子 保證
【說明書】:

發(fā)明公開了一種離子遷移譜和離子阱質譜聯(lián)用電離腔體。該電離腔體由電離口、進樣口、反應區(qū)、出氣口、離子門和夾管閥組成,用以連接電離源、離子遷移譜和離子阱質譜。經電離源產生的離子一部分透過離子門直接進入離子遷移譜,另一部分通過脈沖式打開的夾管閥進入離子阱質譜,該接口可以保證離子遷移譜和離子阱質譜同時工作且互不影響。

技術領域

本發(fā)明涉及一種離子遷移譜和離子阱質譜聯(lián)用電離腔體。該電離腔體連接電離源、離子遷移譜和離子阱質譜,經電離源產生的離子一部分透過離子門直接進入離子遷移譜,另一部分通過脈沖式打開的夾管閥進入離子阱質譜。該電離腔體可以保證離子遷移譜和離子阱質譜同時工作且互不影響。

背景技術

離子遷移譜是一種基于氣離子的遷移率進行分離分析的技術,它具有結構簡單、靈敏度高、分析速度快、能夠分離檢測同分異構體等優(yōu)點,但離子遷移譜的分辨率較低,單獨使用時無法實現(xiàn)復雜樣品的準確定性。質譜是一種基于氣相離子的質荷比進行分離分析的技術,具有分析速度快、專屬性強和靈敏度高等特點,已經逐步發(fā)展為有機物分析的“金標準”,但質譜單獨使用時對于同分異構體難以進行分離。

若能將離子遷移譜和質譜聯(lián)用,兩者可相互補充,拓寬應用范圍。但離子遷移譜在大氣壓下工作,而質譜在真空條件下工作,因此需要設計適當接口來保證兩者能同時工作互不影響。

本發(fā)明提出了一種離子遷移譜和離子阱質譜聯(lián)用電離腔體,該電離腔體連接電離源、離子遷移譜和離子阱質譜,經電離源產生的離子一部分透過離子門直接進入離子遷移譜,另一部分通過脈沖式打開的夾管閥進入離子阱質譜。該電離腔體可以保證離子遷移譜和離子阱質譜同時工作且互不影響。

發(fā)明內容

本發(fā)明涉及一種離子遷移譜和離子阱質譜聯(lián)用電離腔體,該電離腔體連接電離源、離子遷移譜和離子阱質譜,經電離源產生的離子一部分透過離子門直接進入離子遷移譜,另一部分通過脈沖式打開的夾管閥進入離子阱質譜。該電離腔體可以保證離子遷移譜和離子阱質譜同時工作且互不影響。

為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用如下技術方案:

一種離子遷移譜和離子阱質譜聯(lián)用電離腔體,包括一密閉容器和金屬毛細管,于密閉容器左端開設有用于與電離源相連接的電離口,電離源使引入容器內的樣品氣電離,于密閉容器形成反應區(qū);于密閉容器右端開設有離子門,用于與連接離子遷移管的離子遷移區(qū)相連接;

于密閉容器上方設有樣品氣體進樣口和出氣口,金屬毛細管一端與密閉容器內相連通,金屬毛細管另一端用于與離子阱質譜進樣口相連;于金屬毛細管上設有夾管閥。

若進樣口靠近電離源一側設置,出氣口靠近離子門一側設置;則構成雙向氣流離子遷移譜和離子阱質譜聯(lián)用電離腔體;或,若進樣口靠近離子門一側設置,出氣口靠近電離源一側設置,則構成單向氣流離子遷移譜和離子阱質譜聯(lián)用電離腔體。

與密閉容器內相連通的金屬毛細管一端位于進樣口和出氣口之間,即進樣口和出氣口位于與密閉容器內相連通金屬毛細管一端的左右二側。

經電離源產生的離子一部分透過離子門直接進入離子遷移譜的離子遷移區(qū),另一部分通過脈沖式打開的夾管閥進入離子阱質譜,該裝置可以保證離子遷移譜和離子阱質譜同時工作且互不影響。

電離腔體反應區(qū)由3個以上的圓環(huán)狀絕緣墊片和3個以上的圓環(huán)狀金屬電極片交替排列組成,電極片的數(shù)量可根據(jù)實際需要增加或減少,絕緣片和金屬電極片間做密封處理;反應區(qū)徑向尺寸根據(jù)需要可調節(jié)。

進樣口位于靠近電離口或離子門的第一片電極片與第二電極片之間,出氣口位于離子門或電離口及與它們相鄰的電極片之間;進樣口和出氣口的大小可根據(jù)需要進行調節(jié)。

夾管閥進氣口為金屬毛細管,毛細管不能與電極片接觸,不能伸入反應區(qū),處于反應區(qū)下方。

整個電離腔體的外部設有保溫層。

本發(fā)明的優(yōu)點在于:

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