[發(fā)明專利]拋光盤在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201611012719.2 | 申請(qǐng)日: | 2016-11-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108068024A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-05-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林喜鋒;聶旭光;付小燕 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海域申光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | B24D7/10 | 分類號(hào): | B24D7/10;B24B29/00 |
| 代理公司: | 上海宏京知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31297 | 代理人: | 趙朋曉 |
| 地址: | 201811 上海市嘉*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 拋光盤 環(huán)形凹槽 拋光過(guò)程 拋光液 圓心 轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程 拋光 環(huán)境衛(wèi)生 通孔 外濺 穿透 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種拋光盤,包括拋光盤主體,所述的拋光盤主體上設(shè)置有環(huán)形凹槽,該環(huán)形凹槽以拋光盤主體的中心為圓心設(shè)置;所述的環(huán)形凹槽內(nèi)設(shè)置有穿透拋光盤主體的通孔。本發(fā)明的拋光盤有效降低了在拋光轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中拋光盤所產(chǎn)生的熱量,同時(shí)改善了拋光液在拋光過(guò)程中回流及時(shí),減少拋光液外濺現(xiàn)象,改善了拋光過(guò)程中的環(huán)境衛(wèi)生。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及平面拋光設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,特別是一種拋光盤。
背景技術(shù)
拋光是基于研磨后的一道更為精細(xì)的工序。平面拋光機(jī)是一種專門處理工件表面光亮度的設(shè)備,在它上面有一個(gè)重要的配置----拋光盤。拋光盤的選擇是非常重要的,它一定程度上影響著工件表面拋光的具體效果,是拋光程序中不可或缺的重要部分。在拋光的時(shí)候,視線要集中在拋光盤的邊緣,不要超出邊角位,以防止拋穿邊角位。
現(xiàn)有的拋光盤,在拋光玻璃時(shí),拋光盤在轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中,因長(zhǎng)時(shí)間轉(zhuǎn)動(dòng)摩擦所產(chǎn)生的熱量無(wú)法排出,多的拋光液回流不及時(shí),造成拋光盤熱量增加,從而致使光坯脫落,造成不良,同時(shí)光盤周邊拋光液濺射,影響環(huán)境。
發(fā)明內(nèi)容
基于此,針對(duì)上述問(wèn)題,有必要提出一種拋光盤,該拋光盤有效降低了在拋光轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中拋光盤所產(chǎn)生的熱量,同時(shí)改善了拋光液在拋光過(guò)程中回流及時(shí),減少拋光液外濺現(xiàn)象,改善了拋光過(guò)程中的環(huán)境衛(wèi)生。
本發(fā)明的技術(shù)方案是:一種拋光盤,包括拋光盤主體,所述的拋光盤主體上設(shè)置有環(huán)形凹槽,該環(huán)形凹槽以拋光盤主體的中心為圓心設(shè)置;所述的環(huán)形凹槽內(nèi)設(shè)置有穿透拋光盤主體的通孔。
經(jīng)過(guò)改進(jìn)后的拋光盤,拋光盤主體上設(shè)置環(huán)形凹槽后,有效降低了在拋光轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中拋光盤所產(chǎn)生的熱量,環(huán)形凹槽內(nèi)設(shè)置的通孔同時(shí)改善了拋光液在拋光過(guò)程中回流及時(shí),減少拋光液外濺現(xiàn)象,改善了拋光過(guò)程中的環(huán)境衛(wèi)生。
優(yōu)選地,所述的環(huán)形凹槽上均勻設(shè)置有至少兩個(gè)通孔。
多個(gè)通孔可以加快拋光液的回流,防止回流速度不夠仍然導(dǎo)致拋光液規(guī)程外濺。
優(yōu)選地,所述的拋光盤主體上均勻設(shè)置有至少兩個(gè)環(huán)形凹槽,所述的至少兩個(gè)環(huán)形凹槽均以拋光盤主體的中心為圓心設(shè)置。
同心設(shè)置多個(gè)環(huán)形凹槽,可以進(jìn)一步降低在拋光轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中拋光盤所產(chǎn)生的熱量,另外也可以進(jìn)一步改善拋光液在拋光過(guò)程中回流及時(shí),減少拋光液外濺現(xiàn)象,改善了拋光過(guò)程中的環(huán)境衛(wèi)生。
優(yōu)選地,所述拋光盤主體上相鄰兩個(gè)環(huán)形凹槽間的距離為L(zhǎng),且2cm≦L≦4cm。
同心設(shè)置的多個(gè)環(huán)形凹槽,如果相鄰兩個(gè)環(huán)形凹槽間的距離過(guò)小,會(huì)影響整體結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性,如果過(guò)大,那么設(shè)置的環(huán)形凹槽數(shù)量會(huì)變少,不利于降低在拋光轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中拋光盤所產(chǎn)生的熱量,以及改善在拋光過(guò)程中拋光液回流及時(shí),減少拋光液外濺現(xiàn)象,改善拋光過(guò)程中的環(huán)境衛(wèi)生,結(jié)合大量實(shí)踐得出,2cm≦L≦4cm為最優(yōu)。
本發(fā)明的有益效果是:
1、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,改進(jìn)成本低,有效降低了在拋光轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中拋光盤所產(chǎn)生的熱量;
2、改善了拋光液在拋光過(guò)程中回流及時(shí),減少拋光液外濺現(xiàn)象,改善了拋光過(guò)程中的環(huán)境衛(wèi)生。
附圖說(shuō)明
圖1為現(xiàn)有拋光盤的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
附圖標(biāo)記:10-拋光盤主體,20-環(huán)形凹槽,30-通孔。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
實(shí)施例
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