[發(fā)明專利]存儲器結(jié)構(gòu)及其形成方法、存儲器電路及其工作方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201611011878.0
• 申請日: 2016-11-17
• 公開（公告）號: CN108074930B
• 公開（公告）日: 2020-11-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王楠
• 申請（專利權(quán)）人: 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司
• 主分類號: H01L27/11
• 分類號: H01L27/11;H01L21/8244
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 徐文欣;吳敏

1.一種存儲器結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：

襯底，所述襯底包括：第一下拉區(qū)、第二下拉區(qū)、第一傳輸區(qū)和第二傳輸區(qū)，以及第一分流區(qū)或第二分流區(qū)；

位于襯底第一下拉區(qū)的第一下拉晶體管，所述第一下拉晶體管具有第一溝道寬度，所述第一下拉晶體管包括：位于所述襯底上的第一下拉柵極結(jié)構(gòu)，分別位于所述第一下拉柵極結(jié)構(gòu)兩側(cè)襯底中的第一下拉源區(qū)和第一下拉漏區(qū)，所述第一下拉源區(qū)用于施加第一電位；

位于襯底第二下拉區(qū)的第二下拉晶體管，所述第二下拉晶體管具有第三溝道寬度，所述第二下拉晶體管包括：位于所述襯底上的第二下拉柵極結(jié)構(gòu)，分別位于所述第二下拉柵極結(jié)構(gòu)兩側(cè)襯底中的第二下拉源區(qū)和第二下拉漏區(qū)，所述第二下拉柵極結(jié)構(gòu)與所述第一下拉漏區(qū)電連接，所述第二下拉漏區(qū)與所述第一下拉柵極結(jié)構(gòu)電連接，所述第二下拉源區(qū)用于施加所述第一電位；

位于第一傳輸區(qū)襯底上的第一傳輸晶體管，所述第一傳輸晶體管具有第二溝道寬度，所述第一傳輸晶體管包括：位于所述襯底上的第一傳輸柵極結(jié)構(gòu)，位于所述第一傳輸柵極結(jié)構(gòu)兩側(cè)襯底中的第一傳輸源區(qū)和第一傳輸漏區(qū)，所述第一傳輸源區(qū)與所述第一下拉漏區(qū)電連接；

位于第二傳輸區(qū)襯底上的第二傳輸晶體管，所述第二傳輸晶體管具有第四溝道寬度，所述第二傳輸晶體管包括：位于所述襯底上的第二傳輸柵極結(jié)構(gòu)；位于所述第二傳輸柵極結(jié)構(gòu)兩側(cè)襯底中的第二傳輸源區(qū)和第二傳輸漏區(qū)，所述第二傳輸源區(qū)與所述第二下拉漏區(qū)電連接；

所述第四溝道寬度小于所述第三溝道寬度；

或者所述第二溝道寬度小于所述第一溝道寬度；

或者所述第二溝道寬度小于所述第一溝道寬度，且所述第四溝道寬度小于所述第三溝道寬度；

連接所述第一傳輸柵極結(jié)構(gòu)和所述第二傳輸柵極結(jié)構(gòu)的字線；

連接所述第一傳輸漏區(qū)的第一位線；

連接所述第二傳輸漏區(qū)的第二位線；

位于襯底第一分流區(qū)上的第一分流結(jié)構(gòu)，所述第一分流結(jié)構(gòu)包括第一連接部和第二連接部，所述第一連接部用于施加所述第一電位；所述第二連接部與所述第一位線電連接，或者所述存儲器還包括第三位線，所述第二連接部連接所述第三位線；

位于襯底第二分流區(qū)上的第二分流結(jié)構(gòu)，所述第二分流結(jié)構(gòu)包括第三連接部和第四連接部，所述第三連接部用于施加所述第一電位；所述第四連接部與所述第二位線電連接，或者所述存儲器還包括第四位線，所述第四連接部連接所述第四位線。

2.如權(quán)利要求1所述的存儲器結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第一傳輸區(qū)襯底上具有第一傳輸鰭部，所述第一傳輸柵極結(jié)構(gòu)橫跨所述第一傳輸鰭部，所述第一傳輸源區(qū)和第一傳輸漏區(qū)分別位于所述第一傳輸柵極結(jié)構(gòu)兩側(cè)的第一傳輸鰭部中；

所述第二傳輸區(qū)襯底具有第二傳輸鰭部，所述第二傳輸柵極結(jié)構(gòu)橫跨所述第二傳輸鰭部，所述第二傳輸源區(qū)和第二傳輸漏區(qū)分別位于所述第二傳輸柵極結(jié)構(gòu)兩側(cè)的第二傳輸鰭部中；

所述第一下拉區(qū)襯底包括第一下拉鰭部，所述第一下拉柵極結(jié)構(gòu)橫跨所述第一下拉鰭部，且位于所述第一下拉鰭部部分側(cè)壁和頂部表面，所述第一下拉源區(qū)和所述第一下拉漏區(qū)分別位于所述第一下拉柵極結(jié)構(gòu)兩側(cè)的第一下拉鰭部中；

所述第二下拉區(qū)襯底包括第二下拉鰭部，所述第二下拉柵極結(jié)構(gòu)橫跨所述第二下拉鰭部，且位于所述第二下拉鰭部部分側(cè)壁和頂部表面，所述第二下拉源區(qū)和所述第二下拉漏區(qū)分別位于所述第二下拉柵極結(jié)構(gòu)兩側(cè)的第二下拉鰭部中。