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[發明專利]主動式光學設備除污裝置在審

專利信息
申請號: 201611006113.8 申請日: 2016-11-16
公開(公告)號: CN106733764A 公開(公告)日: 2017-05-31
發明(設計)人: 胡桂標 申請(專利權)人: 上海云魚智能科技有限公司
主分類號: B08B1/02 分類號: B08B1/02;B08B3/04;B08B15/04
代理公司: 暫無信息 代理人: 暫無信息
地址: 200333 上海市*** 國省代碼: 上海;31
權利要求書: 查看更多 說明書: 查看更多
摘要:
搜索關鍵詞: 主動 光學 設備 裝置
【說明書】:

技術領域

本發明涉及光學除污領域,特別涉及一種主動式光學設備除污裝置。

背景技術

光學設備已經進入了人類日常生活、工業生產的各種應用中,成為人類生活與工業生產不可缺少的器具。光學設備通過接受或者發射可見光或者肉眼不可見的紅外、紫外光進行采集、運算、分析等實現其功能。

但是,光學設備在使用過程中最大的弱點在于容易受到環境中污染物的干擾和影響,對于很多精度要求很高的領域,污染物的干擾直接影響其測量效果,甚至讓很多光學設備在實際工業生產與生活中,無法真正長期、可靠使用。對光學設備進行除污、防塵是很多光學設備必不可少的工作,除污、防塵效果的好壞直接影響到光學設備的使用效果。

目前,光學設備的主要除污方法與裝置主要有:

1、 人工主動擦拭清洗方法。人工主動清洗的方法效果是最好的,但是勞動量大,特別是有的光學設備安裝位置或者結構封閉性強,進行清潔操作的難度比較大,效率低。

2、 雨刷式擦拭工具擦拭方法。雨刷式光學部件被動擦拭方式,通過雨刷式機構在電機驅動下,擦拭光學部件表面,光學部件是被動擦拭。這種擦拭方式結構較復雜,擦拭效果差,無法運用于較高污染環境下的光學設備的除污工作。同時存在擦拭區域小;擦拭過程中,雨刷部件干擾光學設備工作;擦拭后污染物回收困難;以及壽命短;擦拭內容簡單,擦拭效果差的特點。

3、 氣體吹掃方法。在光學部件前面使用氣體隔離或者氣體吹掃的方式,一般運用于較低污染環境下。防塵除污效果普通,但是成本非常高昂。

4、 超聲波吹掃方法。除污防塵效果差,無法運用于較大污染環境下。

5、 光學材料主動更換方法。如本發明人的專利號201120449961.2的激光測量設備防塵裝置所公示的方法與設備。該方法,防塵除污效果好,但是在較高污染環境下效果難以長久。結構相對復雜;特別是作為隔離部件的光學材料在較大污染環境使用頻率高;成本高;維護量大;成本高。同時,整體防塵部件由于卷動光學材料的使用,很難在高溫環境下使用。

6、表面防塵材料涂抹方法。在光學表面噴涂納米等疏水性材料,防塵時效性差,很難長時間使用,更無法運用于較為惡劣的污染環境中。

發明內容

發明目的:針對現有技術中存在的問題,本發明提供一種主動式光學設備除污裝置,除污效率高、效果好,能夠與多種光學設備組合使用且不影響光學設備正常工作,結構簡單,可靠性高。

技術方案:本發明提供了一種主動式光學設備除污裝置,包括驅動部件、光學材料部件和除污部件,所述驅動部件用于驅動所述光學材料部件旋轉,所述光學材料部件運動時,且至少在旋轉時所述光學材料部件的待除污表面與所述除污部件有效接觸。

優選地,所述的主動式光學設備除污裝置還包含與所述除污部件配合使用的污物收集裝置;所述污物收集裝置為袋式污物收集裝置或負壓式污物收集裝置。污物收集裝置用于將除污后產生的污物收集,簡易地實現除污后污染物的集中回收與處理。

優選地,所述的主動式光學設備除污裝置還包括運算處理部件,所述運算處理部件分別與所述驅動部件和/或所述除污部件連接,用于通過預設程序控制所述驅動部件和/或所述除污部件的運行。

優選地,所述驅動部件直接驅動所述光學材料部件運動;或者,所述驅動部件通過連接部件間接驅動所述光學材料部件運動。

優選地,所述光學材料部件為平面結構、圓柱結構、圓罩結構或環形帶結構。

優選地,所述光學材料部件為透明材料或反射材料。

本發明還提供了一種光學設備,包含上述主動式光學設備除污裝置。

本發明還提供了一種電磁波設備,包含上述主動式光學設備除污裝置。

有益效果:本發明通過光學材料部件運動時與除污部件之間的有效接觸與相對旋轉來實現對光學材料部件的主動除污,與現有技術中除污部件做往復運動進行主動除污相比,本發明除污范圍較大,效率高,將其用于光學設備中在除污工作時不影響光學設備正常工作;由于除污部件可以設計成固定不動的,所以除污部件可以設置成多種除污組件的組合使用,從而使得本發明可以多種除污手段并用,并能輕松實現對光學材料部件的雙面除污,除污效果好;本裝置整體結構簡單,可靠性高,使用壽命長;應用范圍廣泛。

附圖說明

圖1為實施方式1中主動式光學設備除污裝置結構示意圖;

圖2為實施方式2中主動式光學設備除污裝置結構示意圖;

圖3為實施方式3中主動式光學設備除污裝置結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖對本發明進行詳細的介紹。

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