[發(fā)明專利]特氣管路、PECVD設備及硅片鍍膜調(diào)整方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611003708.8 | 申請日： | 2016-11-15 |
| 公開（公告）號： | CN106328477B | 公開（公告）日： | 2019-01-18 |
| 發(fā)明（設計）人： | 張曉朋;李翠雙;陳志軍;甄云云;劉少華;陳晨 | 申請（專利權(quán)）人： | 英利能源（中國）有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32;H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司： | 石家莊國為知識產(chǎn)權(quán)事務所 13120 | 代理人： | 王榮君 |
| 地址： | 071051 河*** | 國省代碼： | 河北;13 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 管路 pecvd 設備 硅片 鍍膜 調(diào)整 方法 | ||
【說明書】：
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