[發明專利]涂覆制品、電沉積浴及相關系統有效
| 申請號: | 201611001346.9 | 申請日: | 2012-09-14 |
| 公開(公告)號: | CN106947986B | 公開(公告)日: | 2019-07-19 |
| 發明(設計)人: | 娜茲拉·戴德范德;約翰·杜索;喬納森·C·特倫克爾;艾倫·C·倫德;約翰·克海倫;克里斯托弗·A·舒 | 申請(專利權)人: | 克斯塔里克公司 |
| 主分類號: | C25D3/64 | 分類號: | C25D3/64 |
| 代理公司: | 上海和躍知識產權代理事務所(普通合伙) 31239 | 代理人: | 余文娟 |
| 地址: | 美國馬*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制品 沉積 相關 系統 | ||
1.一種浴,其包含:
銀離子物質;
鎢及/或鉬離子物質;及
氫氧化鈉,其中,所述浴適合用于電沉積方法。
2.根據權利要求1所述的浴,其中,所述浴的pH小于8.0。
3.根據權利要求1所述的浴,其中,所述浴的pH介于6.5與8.5之間。
4.根據權利要求1所述的浴,其進一步包含絡合劑。
5.根據權利要求4所述的浴,其中,至少一種所述絡合劑容許共沉積銀及鎢。
6.根據權利要求4所述的浴,其中,所述絡合劑是5,5-二甲基乙內酰脲。
7.根據權利要求1所述的浴,其中,所述浴是水性溶液。
8.根據權利要求1所述的浴,其中,所述浴進一步包含潤濕劑。
9.根據權利要求1所述的浴,其中,所述浴進一步包含增亮劑。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于克斯塔里克公司,未經克斯塔里克公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201611001346.9/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





