[發(fā)明專利]一種分布式超聲陣列全捕捉檢測(cè)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610999435.0 | 申請(qǐng)日: | 2016-11-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106568844B | 公開(公告)日: | 2019-09-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張益成;聶勇;謝航;甘文軍;蔡家藩 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 核動(dòng)力運(yùn)行研究所;中核武漢核電運(yùn)行技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N29/06 | 分類號(hào): | G01N29/06;G01N29/36 |
| 代理公司: | 核工業(yè)專利中心 11007 | 代理人: | 李東斌 |
| 地址: | 430223 湖北省武漢*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 檢測(cè)工件 捕捉 超聲回波信號(hào) 檢測(cè) 超聲檢測(cè) 超聲陣列 采集 無損檢測(cè)技術(shù) 歸一化處理 回波數(shù)據(jù) 回波信息 監(jiān)測(cè)結(jié)果 探頭單元 探頭頻率 探頭陣列 特性分析 數(shù)據(jù)處理 全矩陣 圖顯示 超聲 核電站 自動(dòng)化 陳列 | ||
1.一種分布式超聲陣列全捕捉檢測(cè)方法,其特征在于:該方法具體包括如下步驟:
步驟1、對(duì)待檢測(cè)工件進(jìn)行特性分析;
分析待檢測(cè)工件的聲學(xué)特性、結(jié)構(gòu)特征、缺陷分布;
步驟2、根據(jù)待檢測(cè)工件特性,選擇相適應(yīng)的探頭頻率與探頭單元尺寸和數(shù)量;
步驟3、在待檢測(cè)工件上布置探頭陣列;
步驟4、利用全矩陣捕捉,采集所有的超聲回波信號(hào);
步驟5、對(duì)采集到的超聲回波信號(hào)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理,以獲得被檢工件中的回波信息;
對(duì)被檢工件的區(qū)域進(jìn)行網(wǎng)格劃分,并利用下式計(jì)算獲得被檢工件中的回波響應(yīng)值:
其中,Sp為目標(biāo)像素點(diǎn)-網(wǎng)格的回波響應(yīng)值;Sigij為利用全矩陣捕捉采集獲得的超聲回波信號(hào);fij為加權(quán)系數(shù);加權(quán)系數(shù)fij的選取具體包括:
步驟5.1、采用現(xiàn)有聲場(chǎng)仿真算法計(jì)算單一探頭晶片單元的發(fā)射聲場(chǎng)BField=g(x,y);
步驟5.2、以聲場(chǎng)最大值對(duì)聲場(chǎng)BField進(jìn)行歸一化處理;
步驟5.3、加權(quán)系數(shù)fij具體由下式獲得:
式中,gi表示在相對(duì)于i號(hào)探頭晶片位置處的歸一化聲場(chǎng),gj表示在相對(duì)于j號(hào)探頭晶片位置處的歸一化聲場(chǎng),可采用雙線性插值的方式從g(x,y)中計(jì)算獲得;
步驟6、將被檢工件回波數(shù)據(jù)歸一化處理,并利用位圖顯示監(jiān)測(cè)結(jié)果;
步驟6.1、將被檢工件回波數(shù)據(jù)歸一化處理,并利用位圖顯示二維缺陷;
步驟6.2、將被檢工件回波數(shù)據(jù)歸一化處理,并利用三維位圖顯示監(jiān)測(cè)結(jié)果。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種分布式超聲陣列全捕捉檢測(cè)方法,其特征在于:所述的步驟4中利用全矩陣捕捉,采集所有的超聲回波信號(hào)的具體步驟為:
步驟4.1、對(duì)所有的探頭晶片進(jìn)行編碼為i=1,2,3…,n;
步驟4.2、激發(fā)編號(hào)為i的晶片單元,隨后用編號(hào)為i到n的所有晶片單元接受超聲波信號(hào),并獨(dú)立保存為Sigi,j,其中,j表示晶片編號(hào);
步驟4.3、激發(fā)編號(hào)為i+1的晶片單元,隨后用編號(hào)為i+1到n的所有晶片單元接受超聲波信號(hào),并獨(dú)立保存為Sigi+1,j;
步驟4.4、重復(fù)步驟4.3,依次激發(fā)所有晶片單元,獲得信號(hào)陣列矩陣。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種分布式超聲陣列全捕捉檢測(cè)方法,其特征在于:所述的步驟2中選擇相適應(yīng)的探頭頻率與探頭單元尺寸和數(shù)量的具體步驟為:
根據(jù)待檢測(cè)工件的特性,選擇探頭單元尺寸Sprobe滿足Sprobe≤1.15×λ,其中,λ為超聲波在工件中的波長(zhǎng);
探頭單元數(shù)量Nprobe的選擇需要滿足6≤Nprobe,且3×Dp/(λ×Sprobe2)≤Nproeb,其中,Dp為被檢區(qū)域距離監(jiān)測(cè)面的最大距離。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種分布式超聲陣列全捕捉檢測(cè)方法,其特征在于:所述的步驟1中在待檢測(cè)工件上布置探頭陣列的步驟為:
在待檢測(cè)工件上以任意的稀疏矩陣排列探頭,其中,存在探頭晶片的位置定義為實(shí)位置,反之為虛位置,由實(shí)位置所圍成的范圍為探頭的覆蓋范圍,為了達(dá)到最佳的監(jiān)測(cè)效果,覆蓋范圍內(nèi)的實(shí)位置數(shù)量應(yīng)該大于虛位置數(shù)量;在M×N的矩陣中,矩陣間距Gap需滿足:Gap≤λ/2。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種分布式超聲陣列全捕捉檢測(cè)方法,其特征在于:所述的步驟6.2中將被檢工件回波數(shù)據(jù)歸一化處理,并利用三維位圖顯示監(jiān)測(cè)結(jié)果的具體步驟為:
步驟6.2.1、選擇閾值,將三維結(jié)果中小于該閾值的值賦予0值,其中,閾值的選擇可參考直方圖;
步驟6.2.2、采用現(xiàn)有圖像處理算法,識(shí)別所有的三維連通區(qū)域;
步驟6.2.3、針對(duì)每個(gè)連通區(qū)域,計(jì)算等高面,并利用不同程度的透明色表示,透明度與賦值成正比,0值區(qū)為無色全透明,即可有效顯示所有的缺陷區(qū)域。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于核動(dòng)力運(yùn)行研究所;中核武漢核電運(yùn)行技術(shù)股份有限公司,未經(jīng)核動(dòng)力運(yùn)行研究所;中核武漢核電運(yùn)行技術(shù)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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