[發(fā)明專利]一種基于光學(xué)差異性的多射流作用流場(chǎng)顯示裝置與方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610997547.2 | 申請(qǐng)日: | 2016-11-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106568575B | 公開(公告)日: | 2019-01-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張勇;朱靜;鐘文琪;金保昇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 東南大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01M10/00 | 分類號(hào): | G01M10/00 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 黃天天 |
| 地址: | 210088 江蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 示蹤粒子 流場(chǎng)顯示裝置 固相顆粒 光學(xué)差異 極性粒子 射流氣流 射流作用 造影 影像 紅外熱成像系統(tǒng) 檢測(cè)器 紅外熱成像儀 數(shù)據(jù)處理系統(tǒng) 準(zhǔn)確度 成像系統(tǒng) 光場(chǎng)相機(jī) 光學(xué)特性 紅外光線 空間分布 氣固兩相 數(shù)字減影 同步測(cè)量 圖像處理 熒光粒子 測(cè)量床 全光場(chǎng) 主流場(chǎng) 射流 衰減 去除 探測(cè) 捕捉 主流 | ||
本發(fā)明公開了一種基于光學(xué)差異性的多射流作用流場(chǎng)顯示裝置與方法,裝置由待測(cè)量床體、X光成像系統(tǒng)、紅外熱成像系統(tǒng)、全光場(chǎng)成像系統(tǒng)和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)組成。通過在氣固兩相主流場(chǎng)中,以極性粒子作為一股射流氣流的示蹤粒子,造影顆粒作為另一股射流氣流的示蹤粒子,熒光粒子作為主流中的固相顆粒,基于示蹤粒子不同的光學(xué)特性,采用紅外熱成像儀捕捉極性粒子發(fā)出的紅外光線,X光檢測(cè)器探測(cè)經(jīng)造影顆粒衰減后的X光線,在此基礎(chǔ)上,通過數(shù)字減影手段去除光場(chǎng)相機(jī)影像中的示蹤粒子影像,極大地提高了圖像處理的準(zhǔn)確度,實(shí)現(xiàn)了同步測(cè)量不同射流示蹤粒子和固相顆粒的空間分布。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于多相流動(dòng)參數(shù)測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種基于光學(xué)差異性的多射流作用流場(chǎng)顯示裝置與方法。
技術(shù)背景
氣固兩相主流中多射流的相互作用是工程設(shè)備中的常見現(xiàn)象,研究多射流的相互作用過程,深入探索射流相互作用機(jī)理,對(duì)于優(yōu)化設(shè)計(jì)和合理操作工程設(shè)備具有重要意義。
目前對(duì)多射流相互作用規(guī)律的研究主要集中于實(shí)驗(yàn)方面。在實(shí)驗(yàn)測(cè)量中,通常采用PIV流場(chǎng)測(cè)量方法,但該方法由于測(cè)量原理的限制,只能測(cè)量單相流場(chǎng)的速度分布,無法同時(shí)測(cè)量氣氣兩股或多股射流相互作用過程的流動(dòng)特性。近幾年,一些研究者也發(fā)展了一些新的測(cè)量方法,如將兩相粒子呈現(xiàn)在同一底片上,然后采用亮度分辨法、粒度分辨法、空間頻率分辨法、形狀分辨法等對(duì)兩相粒子圖像進(jìn)行分離后再進(jìn)行單相運(yùn)算。這些方法主要是基于后處理圖像分析,通過相關(guān)性分析分離兩種粒子的影像,由于本身兩種顆粒具有相似的示蹤粒子特性(低密度、小粒徑)和光學(xué)散射特性,很難通過后處理區(qū)分所有的粒子,因?yàn)榧词故聚櫫W釉跍y(cè)試前被經(jīng)過改性處理,測(cè)量光源也很難形成穩(wěn)定統(tǒng)一的光源強(qiáng)度,這就會(huì)使不同示蹤粒子有可能在圖像上呈現(xiàn)一致的亮度,從而帶來圖像分析引起的誤差。
如果這些示蹤粒子能主動(dòng)或被動(dòng)激發(fā)出不同的光線,如紅外光線、X光線等,然后采用不同的光學(xué)器件分別捕捉這些顆粒的運(yùn)動(dòng)軌跡,如紅外熱成像儀捕捉紅外光線、X光檢測(cè)器捕獲X光等,對(duì)不同的粒子進(jìn)行獨(dú)立顯示,這將是一種全新的測(cè)量思路,本發(fā)明專利就是基于這種思路發(fā)展起來的。
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明目的:本發(fā)明針對(duì)氣固流場(chǎng)中多射流相互作用時(shí),常規(guī)方法難以同時(shí)展現(xiàn)多股射流與氣固主流的流場(chǎng)問題,提供了一種基于光學(xué)差異性的多射流作用流場(chǎng)顯示裝置與方法。
技術(shù)方案:為解決上述問題,本發(fā)明提供了一種基于光學(xué)差異性的多射流作用流場(chǎng)顯示裝置,所述的多射流作用流場(chǎng)顯示裝置包括待測(cè)量床體、紅外熱成像系統(tǒng)、X光成像系統(tǒng)、全光場(chǎng)成像系統(tǒng)和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng);
所述待測(cè)量床體由依次相連通的主流入口、加料段、錐段、整流器、流通段和旋風(fēng)分離器組成,所述加料段的上方設(shè)置有加料器,所述流通段的兩側(cè)分別設(shè)置有射流管A和射流管B;
所述紅外熱成像系統(tǒng)包括極性粒子、加熱部分和紅外成像部分組成,所述紅外熱成像系統(tǒng)的加熱部分放置在待測(cè)量床體流通段射流管A或射流管B所在側(cè),紅外熱成像系統(tǒng)的成像部分放置在待測(cè)量床體流通段的上側(cè);
所述X光成像系統(tǒng)包括造影粒子、發(fā)光部分和接收部分,所述發(fā)光部分和接收部分分別放置在待測(cè)量床體流通段的兩側(cè);
所述全光場(chǎng)成像系統(tǒng)包括固相顆粒、光源部分和光學(xué)成像部分,所述光源部分放置在待測(cè)量床體流通段射流管一側(cè),成像部分放置在待測(cè)量床體流通段的上側(cè);
所述數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)分別與紅外熱成像系統(tǒng)、X光成像系統(tǒng)和全光場(chǎng)成像系統(tǒng)的成像部分相連,所述數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)通過圖像處理獲得不同時(shí)刻和不同操作參數(shù)下極性粒子、造影粒子和固相顆粒的空間分布。
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