[發明專利]傳感器、光刻設備以及器件制造方法

有效

• 申請號: 201610987008.0
• 申請日: 2013-03-19
• 公開（公告）號: CN106873312B
• 公開（公告）日: 2019-09-06
• 發明（設計）人: T·勞倫特;J·H·W·雅各布斯;H·考克;Y·范德維基維爾;J·范德瓦爾;B·克拿倫;R·J·伍德;J·S·C·維斯特爾拉肯;H·范德里基德特;E·庫伊克爾;W·M·J·赫肯斯-墨騰斯;Y·B·Y·特萊特
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王靜

1.一種用于浸沒光刻設備中的傳感器系統，所述傳感器系統包括：

構件，在傳感器系統的使用過程中所述構件接觸供給至與投影系統的元件相鄰的空間的浸沒液體；

變換器，安裝在由高熱傳導率的材料制成的支撐構件上并配置成將刺激轉換為電信號；

溫度調節裝置，配置成熱調節所述變換器，

其中，所述變換器安裝成鄰近所述溫度調節裝置，所述支撐構件與所述溫度調節裝置分離開一間隙，同時所述支撐構件還提供在所述變換器和所述溫度調節裝置之間的熱路徑，

其中所述溫度調節裝置和所述變換器以非接觸的方式熱耦合。

2.根據權利要求1所述的傳感器系統，還包括電路，所述電路配置成接收由所述變換器產生的所述電信號；

其中所述電路安裝在所述支撐構件的背離所述浸沒液體的表面上，其中熱流路徑將由所述電路產生的熱傳導至所述溫度調節裝置。

3.根據權利要求1所述的傳感器系統，其中所述變換器安裝在支撐構件面朝所述浸沒液體的面上。

4.根據權利要求1-3中任一項所述的傳感器系統，其中在所述變換器和所述構件之間存在間隙和/或熱絕緣層。

5.根據權利要求1-3中任一項所述的傳感器系統，其中所述溫度調節裝置和所述變換器熱耦合。

6.根據權利要求1-3中任一項所述的傳感器系統，其中所述變換器和溫度調節裝置之間的熱流路徑具有比所述變換器和浸沒液體之間的熱流路徑更高的熱傳導率。

7.一種光刻設備，包括：

投影系統，配置成將通過圖案形成裝置圖案化的束投影到襯底上；

襯底臺；

液體供給系統，配置成將液體供給至所述投影系統和所述襯底臺之間的空間；和

根據權利要求1至6中任一項所述的傳感器系統，其中所述溫度調節裝置被固定至所述襯底臺。

8.一種用于浸沒光刻設備中的傳感器系統，所述傳感器系統包括：

構件，在傳感器系統的使用過程中所述構件接觸供給至與投影系統的元件相鄰的空間的浸沒液體；

變換器，安裝在由高熱傳導率的材料制成的支撐構件上并配置成將刺激轉換為電信號；

溫度調節裝置，

其中，所述變換器和所述溫度調節裝置被固定至所述傳感器系統的不同部分，使得所述支撐構件與所述溫度調節裝置分離開，同時所述支撐構件還提供在所述變換器和溫度調節裝置之間的熱路徑，

其中所述溫度調節裝置和所述變換器以非接觸的方式熱耦合。

9.根據權利要求8所述的傳感器系統，還包括電路，所述電路配置成接收由所述變換器產生的所述電信號且所述電路安裝在所述支撐構件的背離所述浸沒液體的表面上，其中熱流路徑將由所述電路產生的熱傳導至所述溫度調節裝置。

10.根據權利要求8所述的傳感器系統，其中所述變換器安裝在支撐構件面朝所述浸沒液體的面上。

11.根據權利要求8-10中任一項所述的傳感器系統，其中間隙在所述支撐構件與所述溫度調節裝置之間。

12.根據權利要求8-10中任一項所述的傳感器系統，其中所述變換器和溫度調節裝置之間的熱流路徑具有比所述變換器和浸沒液體之間的熱流路徑更高的熱傳導率。

13.根據權利要求8-10中任一項所述的傳感器系統，其中在所述變換器和所述構件之間存在間隙和/或熱絕緣層。