[發(fā)明專利]一種晶圓化學(xué)機(jī)械拋光保持環(huán)的清洗裝置及清洗方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610985516.5 | 申請日： | 2016-11-09 |
| 公開（公告）號： | CN106514482B | 公開（公告）日： | 2019-08-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陳智 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/34 | 分類號： | B24B37/34;B24B37/04;B24B53/017;B24B55/00;B08B3/02 |
| 代理公司： | 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 化學(xué) 機(jī)械拋光 保持 清洗 裝置 方法 | ||
【說明書】：
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