[發(fā)明專利]一種薄膜圖形化方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610979758.3 | 申請(qǐng)日： | 2016-11-08 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN106646938B | 公開（公告）日： | 2019-09-13 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陳永勝 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G02F1/13 | 分類號(hào)： | G02F1/13;H01L21/78 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黃威 |
| 地址： | 430079 湖北省武漢市*** | 國(guó)省代碼： | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 膠層 薄膜堆積 薄膜圖形 金屬掩膜板 薄膜沉積 基板 去除 薄膜 圖形化薄膜 圖形化步驟 固化處理 制程 生產(chǎn)成本 | ||
1.一種薄膜圖形化方法，其特征在于，包括：
提供一基板，所述基板包括薄膜堆積區(qū)域以及非薄膜堆積區(qū)域；
在所述非薄膜堆積區(qū)域上形成一可剝膠層；
對(duì)所述可剝膠層進(jìn)行固化處理；
在所述可剝膠層以及所述薄膜堆積區(qū)域上形成一薄膜；
去除所述可剝膠層以及位于所述可剝膠層上的所述薄膜，以形成圖形化薄膜；
所述在所述非薄膜堆積區(qū)域上形成一可剝膠層的步驟，包括：
在所述薄膜堆積區(qū)域上貼合掩膜板；
在所述非薄膜堆積區(qū)域上形成一所述可剝膠層；
移除所述掩膜板，并將所述掩膜板上粘貼的所述可剝膠層清除。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜圖形化方法，其特征在于，可采用網(wǎng)印、噴涂以及涂布的方式在所述非薄膜區(qū)域上形成一可剝膠層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜圖形化方法，其特征在于，所述移除掩膜板的步驟后，可對(duì)所述薄膜堆積區(qū)域進(jìn)行檢查，如果在所述薄膜區(qū)域上覆蓋所述可剝膠層，則去除所述薄膜區(qū)域上的所述可剝膠層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜圖形化方法，其特征在于，所述可剝膠層的厚度介于1-30微米之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜圖形化方法，其特征在于，可采用加熱的方式對(duì)所述可剝膠層進(jìn)行固化處理。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜圖形化方法，其特征在于，可采用紫外線照射的方式對(duì)所述可剝膠層進(jìn)行固化處理。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜圖形化方法，其特征在于，在所述非薄膜堆積區(qū)域上形成可剝膠的步驟前，對(duì)所述基板進(jìn)行清潔工序。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜圖形化方法，其特征在于，可采用機(jī)械剝離的方式去除所述可剝膠層以及位于所述可剝膠層上的所述薄膜。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜圖形化方法，其特征在于，可采用手工剝離的方式去除所述可剝膠層以及位于所述可剝膠層上的所述薄膜。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
