[發明專利]輻照介質的裝置和方法

有效

• 申請號: 201610977103.2
• 申請日: 2010-09-17
• 公開（公告）號: CN106644947B
• 公開（公告）日: 2020-06-19
• 發明（設計）人: 增村考洋
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G01N21/17
• 分類號: G01N21/17;G01N21/47;G03H1/02;G03H1/04;G03H1/22;G03H1/26;G03H1/28
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 曾琳

1.一種成像系統，包括：

第一輻照單元，被配置為用入射光輻照介質；

超聲器件，其將超聲波發送到所述介質，以在所述介質中的某位置處將所述入射光通過頻移調制成調制光；

檢測單元，被配置為獲得與通過調制光和參考光之間的干涉產生的干涉圖案對應的信息；

第二輻照單元，被配置為用參考光輻照檢測單元，參考光和入射光之間的頻率差精確地或大致等于通過超聲器件聚焦的超聲波的頻率；

包括空間光調制器的產生器，被配置為基于調制光的相位分布來產生輻照介質的重構光，其中，所述重構光是所述調制光的相位共軛波；以及

圖像形成單元，被配置為基于響應于用重構光輻照介質而從介質輸出的信號來形成圖像。

2.根據權利要求1所述的成像系統，其中，光源所發射的波長的范圍為從可見光到近紅外光。

3.根據權利要求1所述的成像系統，其中，所述成像包括熒光成像。

4.根據權利要求1所述的成像系統，還包括：調制單元，用于在所述介質中的所述位置處對入射光的頻率進行調制而產生調制光，

其中，調制單元包括被配置為在所述位置聚焦超聲波的超聲波聚焦單元。

5.根據權利要求1所述的成像系統，其中，在將重構光聚焦在介質的第一區域中的位于所述位置的聚焦體之后，在比介質的第一區域深的第二區域中設置聚集重構光的新的聚焦體。

6.根據權利要求1所述的成像系統，其中，在將重構光聚焦在位于所述位置的聚焦體之后，將重構光聚焦在介質中的比該聚焦體小的新的聚焦體。

7.根據權利要求1所述的成像系統，其中，基于由模態獲得的先驗信息而設置介質中的所述位置。

8.根據權利要求7所述的成像系統，其中，所述模態包括X射線成像系統、MRI、超聲系統、光聲成像系統、以及聲光成像系統中的至少任一個。

9.根據權利要求7所述的成像系統，

其中，所述模態是獲取回波圖像的超聲波系統。

10.根據權利要求1所述的成像系統，還包括：

控制單元，被配置為控制重構光的強度。

11.根據權利要求10所述的成像系統，

其中，所述控制單元以如下方式控制重構光的強度：即，使得重構光的強度不同于調制光的強度。

12.根據權利要求1所述的成像系統，

其中，通過使入射光的頻率偏移來產生調制光。

13.根據權利要求1所述的成像系統，

其中，產生器基于波長在大于等于380nm并且小于等于2500nm的范圍內的來自光源的入射光來產生重構光。

14.根據權利要求2所述的成像系統，

其中，所述成像系統用于超聲調制斷層成像。

15.一種成像方法，包括：

由第一輻照單元發射入射到介質上的入射光；

通過超聲器件將超聲波發送到所述介質，以在所述介質中的某位置處對所述入射光的頻率進行調制而形成調制光；

通過檢測單元獲得與通過調制光和參考光之間的干涉產生的干涉圖案對應的信息；

用參考光輻照檢測單元，參考光和入射光之間的頻率差精確地或大致等于通過超聲器件聚焦的超聲波的頻率；

基于調制光的相位分布來產生輻照介質的重構光，其中，所述重構光是所述調制光的相位共軛波；以及

基于響應于用重構光輻照介質而從介質輸出的信號來形成圖像。

16.根據權利要求15所述的成像方法，其中，光源所發射的波長的范圍為從可見光到近紅外光。