[發明專利]一種低共熔溶劑電沉積鉻錳合金鍍層的方法在審
| 申請號： | 201610975321.2 | 申請日： | 2016-11-07 |
| 公開（公告）號： | CN106567110A | 公開（公告）日： | 2017-04-19 |
| 發明（設計）人： | 華一新;武騰;汝娟堅;徐存英;李堅;張啟波;李艷;高小兵;蘇波;艾剛華;牛平召 | 申請（專利權）人： | 昆明理工大學 |
| 主分類號： | C25D3/66 | 分類號： | C25D3/66 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 650093 云*** | 國省代碼： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 低共熔 溶劑 沉積 合金 鍍層 方法 | ||
【說明書】：
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