[發明專利]柔性OLED基材及其制備方法在審
| 申請號: | 201610975232.8 | 申請日: | 2016-11-07 |
| 公開(公告)號: | CN108075040A | 公開(公告)日: | 2018-05-25 |
| 發明(設計)人: | 蘇文明;費斐;吳杰;張東煜;崔錚 | 申請(專利權)人: | 中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所 |
| 主分類號: | H01L51/00 | 分類號: | H01L51/00;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 深圳市銘粵知識產權代理有限公司 44304 | 代理人: | 孫偉峰 |
| 地址: | 215123 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 透明導電層 水氧阻隔層 電極修飾 基材 基底 透明導電層表面 低表面粗糙度 水氧阻隔性能 導電聚合物 發光均勻性 耐繞折性 內部電場 器件性能 相對設置 照明器件 透明 高導電 均勻性 平整度 透光率 透過率 方阻 高光 內阻 水氧 制備 能耗 引入 優化 | ||
1.一種柔性OLED基材,其特征在于,包括:
相對設置的柔性透明基底和透明導電層;
設置于所述柔性透明基底和所述透明導電層之間的水氧阻隔層;以及
設置于所述透明導電層背對于所述水氧阻隔層一側的電極修飾層;
其中,所述透明導電層的方阻低于10Ω/□,透光率大于85%,水氧滲透速率低于10
2.根據權利要求1所述的柔性OLED基材,其特征在于,所述透明導電層包括形成在所述水氧阻隔層上的透明膠質層,所述透明膠質層上設有圖形化的凹槽,所述透明導電層還包括設置于所述凹槽中的圖形化的導電網格層。
3.根據權利要求2所述的柔性OLED基材,其特征在于,所述透明膠質層的上表面與所述導電網格層的上表面齊平,且所述透明膠質層與所述導電網格層的表面粗糙度不大于20nm。
4.根據權利要求2所述的柔性OLED基材,其特征在于,所述透明膠質層的凹槽的寬度為1μm~5μm,所述凹槽深寬比的范圍為3:2~1:2,所述導電網格層的厚度與寬度比的范圍為1:1~1:2。
5.根據權利要求2所述的柔性OLED基材,其特征在于,所述導電網格層的材料為金屬納米油墨,所述金屬納米油墨包括銅、銀納米片或納米顆粒及其混合物;其中,所述銀納米片材的尺寸不超過400nm,所述納米顆粒尺寸不超過150nm。
6.根據權利要求1所述的柔性OLED基材,其特征在于,所述柔性透明基底的材料為PET或透明PI或PC,且所述柔性透明基底的透光率高于90%,厚度為10μm~300μm。
7.根據權利要求1所述的柔性OLED基材,其特征在于,所述水氧阻隔層的厚度不大于5μm,其水汽透過率不大于10
8.根據權利要求1所述的柔性OLED基材,其特征在于,所述電極修飾層為涂布的導電聚合物,或摻雜了無機氧化物、碳材料的導電聚合物,所述電極修飾層的功函數高于5.0eV。
9.一種用于制備權利要求1至8中任一項所述的柔性OLED基材的方法,其特征在于,包括步驟:
在柔性透明基底上形成水氧阻隔層;
在所述水氧阻隔層面上形成具有圖形化的凹槽的透明膠質層;
在所述凹槽中形成導電網格層;
對所述導電網格層和所述透明膠質層的上表面進行平整化處理;
在所述導電網格層上形成電極修飾層。
10.根據權利要求9所述的制備方法,其特征在于,所述導電網格層和所述透明膠質層的上表面進行平整化處理的方法包括:
減薄所述透明膠質層,以使所述導電網格層的上表面的最低點高于所述透明膠質層的上表面的最高點;
拋光磨平所述導電網格層上表面。
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H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
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H01L51-54 .. 材料選擇





