[發明專利]一種X射線掠入射反射鏡有效面積標定方法有效
| 申請號： | 201610974648.8 | 申請日： | 2016-11-04 |
| 公開（公告）號： | CN106568579B | 公開（公告）日： | 2019-06-18 |
| 發明（設計）人： | 石永強;左富昌;鄧樓樓;呂政欣 | 申請（專利權）人： | 北京控制工程研究所 |
| 主分類號： | G01M11/02 | 分類號： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 中國航天科技專利中心 11009 | 代理人： | 陳鵬 |
| 地址： | 100080 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 掠入射反射鏡 標定 有效面積 窄光束 二維平移臺 準直 可調孔徑光闌 反射鏡焦點 測量X射線 掃描X射線 光闌孔徑 技術效果 傳統的 光子 轉動 測量 對準 掃描 重復 | ||
1.一種X射線掠入射反射鏡有效面積標定方法，其特征在于：包括如下步驟：
第一步：開啟窄光束X射線源(2)，獲得X射線窄光束，X射線窄光束的直徑設為H；
第二步：利用標定光束探測器(5)測量X射線窄光束強度；
第三步：調整X射線掠入射反射鏡(1)與窄光束X射線源(2)對準；
第四步：利用窄光束X射線源(2)和二維平移臺(4)對X射線掠入射反射鏡(1)進行掃描，掃描速度設為V；
第五步：利用反射鏡焦點探測器(6)測量所述掃描過程中，X射線掠入射反射鏡(1)焦點處的光子數量C；
第六步：計算X射線掠入射反射鏡(1)的軸上有效面積；
第七步：利用二維旋轉臺(3)轉動X射線掠入射反射鏡(1)，重復第四步至第六步，即可得出所需角度的X射線掠入射反射鏡(1)的軸外有效面積；
所述第六步中，計算方法為其中：I表示X射線窄光束強度。
2.根據權利要求1所述的一種X射線掠入射反射鏡有效面積標定方法，其特征在于：所述第一步中，H的范圍是3～5mm。
3.根據權利要求1所述的一種X射線掠入射反射鏡有效面積標定方法，其特征在于：所述第四步中，V的范圍是3～5mm/s。
4.根據權利要求1所述的一種X射線掠入射反射鏡有效面積標定方法，其特征在于：所述窄光束X射線源(2)包括X射線管(7)和可調孔徑光闌(8)；可調孔徑光闌(8)安裝在X射線管(7)主光軸上，可調孔徑光闌(8)與X射線管(7)的間距范圍是3～5m。
5.根據權利要求4所述的一種X射線掠入射反射鏡有效面積標定方法，其特征在于：所述X射線管(7)的光子能量范圍是0.5～10keV，光束發散角設為20°。
6.根據權利要求4所述的一種X射線掠入射反射鏡有效面積標定方法，其特征在于：所述可調孔徑光闌(8)的孔徑范圍是1～10mm。
7.根據權利要求1所述的一種X射線掠入射反射鏡有效面積標定方法，其特征在于：所述二維旋轉臺(3)的俯仰偏轉范圍是-5°～5°，二維旋轉臺(3)的角度精度高于30°。
8.根據權利要求1所述的一種X射線掠入射反射鏡有效面積標定方法，其特征在于：所述二維平移臺(4)的升降平移范圍是-200～200mm，二維平移臺(4)的平移精度高于10um。
9.根據權利要求1所述的一種X射線掠入射反射鏡有效面積標定方法，其特征在于：所述標定光束探測器(5)和反射鏡焦點探測器(6)均采用硅漂移SDD探測器。
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