[發明專利]一種磁控濺射設備及磁控濺射系統在審
| 申請號： | 201610973400.X | 申請日： | 2016-11-04 |
| 公開（公告）號： | CN106498357A | 公開（公告）日： | 2017-03-15 |
| 發明（設計）人： | 徐興;李澤宇;周媛;魏志英 | 申請（專利權）人： | 廣漢川冶新材料有限責任公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙)11371 | 代理人： | 李佳 |
| 地址： | 618000 四川*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 磁控濺射 設備 系統 | ||
【權利要求書】：
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