[發明專利]質子化增強基質輔助激光解吸電離離子源

有效

• 申請號: 201610967193.7
• 申請日: 2016-10-28
• 公開（公告）號: CN106373857B
• 公開（公告）日: 2017-12-08
• 發明（設計）人: 束繼年;汪海林;李震;楊波;張鵬
• 申請（專利權）人: 中國科學院生態環境研究中心
• 主分類號: H01J49/16
• 分類號: H01J49/16
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種質子化增強基質輔助激光解吸電離離子源，由真空紫外光源室、解吸電離室、樣品室和脈沖激光器組成，其特征在于樣品室和解吸電離室之間由小孔相連，真空紫外光源從一側較低位置由氟化鎂透鏡與解吸電離室相連，脈沖激光器從另一側以45度通過一個法蘭與解吸電離室相連，真空紫外光源室安裝有一個真空紫外氪燈和一個二氯甲烷氣體進樣閥，解吸電離室安裝有一組離子遷移電場電極組合，樣品室安裝一套基板自動傳輸器。

2.根據權利要求1所述的質子化增強基質輔助激光解吸電離離子源，其特征是采用二氯甲烷為質子化劑前體物。

3.根據權利要求1所述的質子化增強基質輔助激光解吸電離離子源，其特征是采用氪燈產生的真空紫外光來激發二氯甲烷，產生激發態二氯甲烷質子化劑。

4.根據權利要求1所述的質子化增強基質輔助激光解吸電離離子源，其特征是混合基質的樣品由脈沖激光解吸，產生氣態分析物。

5.根據權利要求1所述的質子化增強基質輔助激光解吸電離離子源，其特征是通過激發態二氯甲烷質子化劑與氣態分析物分子經碰撞發生的質子化反應來增強分析物的質子化。