[發(fā)明專利]一種低溫還原制備類石墨烯二硫化鉬的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610965686.7 | 申請日： | 2016-11-04 |
| 公開（公告）號： | CN106564954B | 公開（公告）日： | 2018-04-24 |
| 發(fā)明（設計）人： | 胡平;王快社;陳震宇;常恬;周宇航;楊帆;胡卜亮;李秦偉;鄧潔;劉曉平 | 申請（專利權）人： | 西安建筑科技大學 |
| 主分類號： | C01G39/06 | 分類號： | C01G39/06;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 西安恒泰知識產(chǎn)權代理事務所61216 | 代理人： | 李婷,王孝明 |
| 地址： | 710055*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 低溫 還原 制備 石墨 二硫化鉬 方法 | ||
1.一種低溫還原制備類石墨烯二硫化鉬的方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：
步驟一，將二硫化鉬粉末加入到插層溶液中進行插層反應，加熱至10～30℃反應1～3h，然后在30～70℃并攪拌20～50min，75～100℃下攪拌反應10～30min，反應完成后過濾、烘干，得到插層二硫化鉬粉末；
所述的插層溶液為氯酸鉀、硝酸鈉、濃硫酸和雙氧水組成的混合溶液；所述的二硫化鉬粉末與氯酸鉀、硝酸鈉、質(zhì)量濃度98％的濃硫酸和質(zhì)量濃度30％的雙氧水之間的配比關系為1g：(1～4)g：(0.5～2)g：(9～40)mL：(4～20)mL；
步驟二，將步驟一制得的插層二硫化鉬粉末加入到還原劑中進行還原反應，反應10～40min，期間加入分散劑，待反應完全，趁熱用去離子水抽濾清洗產(chǎn)物，然后于干燥箱中90～120℃下干燥18～24h，研磨后即得到類石墨烯二硫化鉬；
所述的還原劑為二甲基甲酰胺或二甲基乙酰胺；所述的插層二硫化鉬粉末與二甲基甲酰胺之間的配比關系為2g：(750～1200)mL；所述的插層二硫化鉬粉末與二甲基乙酰胺之間的配比關系為2g：(615～750)mL；
所述的分散劑為N-甲基吡咯烷酮或聚乙烯吡咯烷酮；所述的插層二硫化鉬粉末與分散劑之間的配比關系為2g：(62～100)mL；
所述的二甲基甲酰胺作為還原劑時的還原反應溫度為130～160℃，所述的二甲基乙酰胺作為還原劑時的還原反應溫度為140～180℃。
2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述的二硫化鉬粉末與氯酸鉀、硝酸鈉、質(zhì)量濃度98％的濃硫酸和質(zhì)量濃度30％的雙氧水之間的配比關系為1g：2g：1g：23mL：7mL。
3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述的插層二硫化鉬粉末與二甲基乙酰胺之間的配比關系為2g：700mL。
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