[發(fā)明專利]密封裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610964085.4 | 申請日： | 2016-11-04 |
| 公開（公告）號： | CN108019511A | 公開（公告）日： | 2018-05-11 |
| 發(fā)明（設計）人： | 黃子龍;黃作興;張耀平;楊順為;張志敏 | 申請（專利權）人： | 江南閥門有限公司 |
| 主分類號： | F16J15/06 | 分類號： | F16J15/06 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人： | 胡曉萍 |
| 地址： | 325013 浙江*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 密封 裝置 | ||
1.一種密封裝置，包括上密封面和下密封面，所述密封裝置還包括密封填料，所述密封填料設置在所述上密封面和所述下密封面之間；
其特征在于，
所述上密封面包括填料腔側壁和底壁，所述填料腔側壁從所述上密封面伸出，所述側壁和所述底壁間形成用于容納密封填料的填料腔；
所述下密封面包括填料容納溝槽側壁和填料容納溝槽底壁，所述側壁和所述底壁間形成用于容納密封填料的填料溝槽；
所述上密封面的所述填料腔與所述下密封面的所述填料容納溝槽配合，其間形成容納所述密封填料的整體腔室，所述整體腔室構成內(nèi)環(huán)形密封面、外環(huán)形密封面以及上、下密封底壁面。
2.如權利要求1所述的密封裝置，其特征在于，所述下密封面的所述底壁上還設有隔離突起。
3.根據(jù)權利要求1所述的密封裝置，其特征在于，所述上密封面的所述填料腔側壁的高度設置為不足以與所述下密封面的所述填料容納溝槽底壁接觸。
4.根據(jù)權利要求1所述的密封裝置，其特征在于，所述上密封面的所述填料腔底壁和所述下密封面的所述填料容納溝槽底壁具有凹凸不平的表面。
5.根據(jù)權利要求4所述的密封裝置，其特征在于，所述凹凸不平的表面包括圓弧形凹凸部和/或鋸齒形凹凸部和/或波浪形凹凸部。
6.根據(jù)權利要求1所述的密封裝置，其特征在于，所述上密封面的所述填料腔側壁和所述底壁形成第一介質(zhì)滲漏路徑，所述路徑呈大致“弓”字線。
7.根據(jù)權利要求1或6所述的密封裝置，其特征在于，所述下密封面的所述填料容納溝槽側壁和所述底壁以及所述填料溝槽底壁的所述隔離突起一起形成第二介質(zhì)滲漏路徑，所述路徑呈大致“巨”字線。
8.根據(jù)權利要求1所述的密封裝置，其特征在于，所述密封填料是軟填料。
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