[發明專利]保持裝置

有效

• 申請號: 201610964055.3
• 申請日: 2016-11-04
• 公開（公告）號: CN106826330B
• 公開（公告）日: 2021-02-09
• 發明（設計）人: G.貝爾納
• 申請（專利權）人: 費斯托股份兩合公司
• 主分類號: B23Q3/154
• 分類號: B23Q3/154;H01F6/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 郭帆揚;宣力偉

1.一種用于暫時地固定工件的保持裝置，其帶有工件架(2;53)，所述工件架(2;53)構造成用于容納工件和/或用于將夾緊力引入到工件上并且包括第一磁性裝置(3)，以及帶有第二磁性裝置(4;44)，所述第二磁性裝置構造成用于與所述第一磁性裝置(3)磁性地相互作用以用于施加承載力或將承載力和夾緊力施加到所述第一磁性裝置(3)上，其中，所述磁性裝置(3,4;44)中的一個包括帶有能規定的磁性的磁場線走向(8)的永磁體組件(5;55)和/或勵磁線圈組件，并且其中，另一磁性裝置(3,4;44)具有超導體(6)，所述超導體設有與所述磁場線走向(8)相匹配的磁場特征(7;64;77)，所述磁場特征構造成用于所述磁性裝置(3,4;44)在至少一個優先位置中的相對定位，其特征在于，兩個磁性裝置(3,4;44)的磁場線走向(8)和磁場特征(7;64;77)相互協調成使得所述磁性裝置(3,4;44)具有兩個不同的對應的優先位置。

2.根據權利要求1所述的保持裝置，其特征在于，所述磁場線走向(8)和所述磁場特征(7;64;77)在至少一個空間方向(9,10)上具有均勻的分度(11,12)。

3.根據權利要求1或2所述的保持裝置，其特征在于，所述兩個磁性裝置(3,4;44)具有彼此相對的表面區域，并且所述兩個磁性裝置(3,4;44)由于所述承載力通過懸浮間隙彼此間隔開。

4.根據權利要求1或2所述的保持裝置，其特征在于，根據海爾貝克陣列構造所述磁場線走向(8)和所述磁場特征(7;64)。

5.根據權利要求1或2所述的保持裝置，其特征在于，帶有所述永磁體組件(5;55)和/或所述勵磁線圈組件的磁性裝置(3,4;44)具有帶有第二磁場線走向的附加的磁性區域(56,57)，并且帶有所述超導體(6)的磁性裝置(3,4;44)具有帶有第二磁場特征(64)的附加的超導體區域，其構造成用于確定在所述磁性裝置(3,4;44)之間的相對運動的運動方向(54)。

6.根據權利要求1或2所述的保持裝置，其特征在于，所述第一磁性裝置(3)包括帶有所述能規定的磁場線走向(8)的所述永磁體組件(5;55)和/或所述勵磁線圈組件，并且所述第二磁性裝置(4)包括所述超導體(6)。

7.根據權利要求6所述的保持裝置，其特征在于，所述第二磁性裝置(4)關聯有冷卻裝置(15)。

8.根據權利要求1或2所述的保持裝置，其特征在于，帶有所述超導體(6)的所述磁性裝置(4)關聯有至少一個勵磁線圈(46)，所述勵磁線圈構造成用于影響與另一磁性裝置(3)的磁性的相互作用。

9.根據權利要求1或2所述的保持裝置，其特征在于，所述工件架(2;53)關聯有驅動裝置(52)，所述驅動裝置構造成用于所述磁性裝置(3,4;44)在所述優先位置之間的相對運動。

10.根據權利要求9所述的保持裝置，其特征在于，所述驅動裝置(52)構造成用于將驅動力無接觸地耦聯到工件架(2;53)上并且包括勵磁線圈組件(62)以及永磁體組件(59)，其構造成用于提供到所述工件架(2;53)處的驅動力。

11.根據權利要求1或2所述的保持裝置，其特征在于，所述第一磁性裝置(3)的面向所述第二磁性裝置(4;44)的表面的擴展小于所述第二磁性裝置(4;44)的面向所述第一磁性裝置(3)的表面的擴展。

12.根據權利要求11所述的保持裝置，其特征在于，多個工件架(2;53)布置在所述第二磁性裝置(4;44)處，其中，所述工件架(2;53)的第一磁性裝置(3)構造成相同的。