[發明專利]一種研磨裝置

有效

• 申請號: 201610962505.5
• 申請日: 2016-11-04
• 公開（公告）號: CN108015674B
• 公開（公告）日: 2020-03-31
• 發明（設計）人: 趙寅初;許安龍;汪琳琳;錢志禹
• 申請（專利權）人: 合肥京東方顯示技術有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: B24B53/10
• 分類號: B24B53/10;B24B21/04;B24B21/18
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;劉偉

本發明提供了一種研磨裝置，包括：研磨帶；及，用于驅動所述研磨帶運動的驅動機構；所述研磨裝置還包括：研磨帶清潔機構，其用于清潔所述研磨帶。本發明所提供的研磨裝置通過設置研磨帶清潔機構，可以對研磨帶的研磨面進行清潔，去除研磨帶表面殘留臟污及異物等，提高研磨帶本身潔凈度，從而避免對待研磨件造成二次污染或二次損傷，提升研磨帶利用率，提升研磨和清潔效果，提高產品良率。

技術領域

本發明涉及顯示器制造技術領域，尤其涉及一種研磨裝置。

背景技術

在顯示器制程中，在貼附偏光片前需要對玻璃基板表面進行清洗，以保證貼附偏光片制成的良率。

現有技術中主要是采用研磨帶清洗方式來對玻璃基板表面進行清洗。圖1所示為目前顯示器制造行業內普遍使用的玻璃基板研磨清洗機的結構示意圖。如圖1所示，研磨清洗機主要包括呈環狀的研磨帶、驅動研磨帶運動的驅動機構以及研磨清洗頭部，其中，驅動機構驅動研磨帶進行轉動，以研磨玻璃基板，在研磨帶的工作區域上端設置研磨清洗頭部，通過研磨清洗頭部來噴灑高壓水汽二流體，以向所述研磨帶提供研磨壓力，而使研磨帶和玻璃基板進行高速摩擦，達到清潔效果。

但是，目前的玻璃基板研磨清洗機長時間清洗時，研磨帶的表面會累積大量臟污與膠類物質，再次對玻璃基板進行清潔時，會降低其清潔效果，嚴重時會將研磨帶表面殘膠與玻璃基板表面摩擦，造成玻璃基板二次污染；并且，TFT-LCD行業內普遍使用的研磨帶，其材質為氧化鋁，表面凸起研磨顆粒，受壓力作用堅硬微小異物與玻璃碎屑極易嵌入研磨帶基帶或卡入研磨顆粒當中，再次研磨時，隨著研磨帶摩擦轉動，有嵌入到基帶內部的概率，進而再次對玻璃基部清潔時，極易對玻璃基部造成表面劃傷，造成二次損壞。

發明內容

本發明的目的在于提供一種研磨裝置，其可以避免由于研磨帶表面臟污及殘膠存在而對基板造成二次污染，解決堅硬異物與玻璃碎屑嵌入研磨帶顆粒中造成基板劃傷的問題。

本發明所提供的技術方案如下：

一種研磨裝置，包括：研磨帶；及，用于驅動所述研磨帶運動的驅動機構；所述研磨裝置還包括：研磨帶清潔機構，其用于清潔所述研磨帶。

進一步的，所述研磨帶具有研磨面和與所述研磨面相對的非研磨面；

所述研磨帶清潔機構包括：

清潔部，用于與所述研磨帶的研磨面接觸，以對研磨帶的研磨面進行清潔，所述清潔部位于所述研磨帶的研磨面一側；

支撐部，用于與所述研磨帶的非研磨面接觸以支撐所述研磨帶，以向所述研磨帶提供與所述清潔部之間的接觸壓力，所述支撐部位于所述研磨帶的非研磨面一側，并位于所述清潔部所對應的位置處。

進一步的，所述清潔部包括：

清潔滾輪，其用于在所述研磨帶的研磨面上滾動摩擦，以對所述研磨帶的研磨面進行清潔，所述清潔滾輪的滾動方向與所述研磨帶的運動方向一致；

滾輪驅動結構，用于驅動所述清潔滾輪滾動；

滾輪移動結構，用于控制所述清潔滾輪在第一狀態和第二狀態之間切換；其中，在所述第一狀態，所述清潔滾輪與所述研磨帶的研磨面接觸，以對研磨帶的研磨面進行清潔；在所述第二狀態，所述清潔滾輪與所述研磨帶的研磨面不接觸。

進一步的，所述清潔部還包括：第一控制單元，用于控制所述滾輪移動結構的工作狀態，以使得所述滾輪移動結構控制所述清潔滾輪按照第一預設周期在所述第一狀態和所述第二狀態之間切換。

進一步的，所述清潔部包括：

清潔刷，其能夠在所述研磨帶的研磨面上接觸，以對所述研磨帶的研磨面進行清潔，所述研磨帶的研磨面上具有多個研磨顆粒，所述清潔刷具有能夠嵌入至多個所述研磨顆粒之間的間隙內的刷毛；