[發明專利]光譜處理裝置、方法以及藥品真偽判定系統有效
| 申請號: | 201610959760.4 | 申請日: | 2016-10-27 |
| 公開(公告)號: | CN108007913B | 公開(公告)日: | 2020-08-14 |
| 發明(設計)人: | 陸峰;陳輝;柳艷;朱青霞;張彬彬;武媚然 | 申請(專利權)人: | 中國人民解放軍第二軍醫大學 |
| 主分類號: | G01N21/65 | 分類號: | G01N21/65 |
| 代理公司: | 上海德昭知識產權代理有限公司 31204 | 代理人: | 郁旦蓉 |
| 地址: | 200433 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光譜 處理 裝置 方法 以及 藥品 真偽 判定 系統 | ||
1.一種光譜處理裝置,對來自光譜質量檢測裝置的合格光譜進行處理,其特征在于,包括:
接收部,接收多個同一藥品的所述合格光譜;
像素壞點判斷處理部,判斷所述合格光譜是否存在像素壞點,當存在所述像素壞點時,對存在所述像素壞點的所述合格光譜進行像素壞點修復處理得到像素修復光譜;
背景扣除處理部,根據預定扣除方法對所述像素修復光譜或判斷不存在所述像素壞點的所述合格光譜進行背景扣除處理得到背景扣除光譜;
平滑處理部,根據預定平滑方法對所述背景扣除光譜進行平滑處理得到平滑光譜;
光譜相似度計算部,計算所述平滑光譜的相似度;
光譜合格率判斷部,判斷所述相似度大于或等于預定閾值的所述平滑光譜的合格率是否滿足預定合格率;
光譜合并部,當所述合格率滿足預定合格率時,按預定合并方法,將所述相似度大于或等于預定閾值的平滑光譜進行合并得到合并光譜;
最終光譜設定部,設定所述合并光譜為最終光譜;
其中,所述像素壞點判斷處理部包括:
平均暗電流值計算單元,從所述合格光譜中獲取暗電流值后求平均得到平均暗電流值;
暗電流方差計算單元,對所述暗電流值進行方差計算,得到暗電流方差值;
預定范圍計算單元,將所述平均暗電流值與2-8倍的暗電流方差值進行相減和相加計算,得到預定范圍;
像素壞點判斷單元,判斷所述合格光譜的暗電流值是否滿足在預定范圍的條件;
壞點相鄰位移值獲取單元,獲取位于不在所述預定范圍的所述暗電流值對應的位移值的前后的兩個相鄰位移值;
修復強度值計算單元,分別獲取所述兩個相鄰位移值分別對應的強度值并求平均得到修復強度值;
像素壞點修復單元,將與所述不在所述預定范圍的暗電流值相對應的強度值,替換為所述修復強度值,得到所述像素壞點修復光譜。
2.根據權利要求1所述的光譜處理裝置,基于存儲有與預定采集裝置型號相對應的不同標準物質的預定標準物質光譜的標準物質光譜庫,對來自光譜質量檢測裝置的合格光譜進行修正處理,其特征在于,包括:
接收部,接收多個同一藥品的所述合格光譜;
像素壞點判斷處理部,判斷所述合格光譜是否存在像素壞點,當存在所述像素壞點時,對存在所述像素壞點的所述合格光譜進行像素壞點修復處理得到像素修復光譜;
背景扣除處理部,根據預定扣除方法對所述像素修復光譜或判斷不存在所述像素壞點的所述合格光譜進行背景扣除處理得到背景扣除光譜;
平滑處理部,根據預定平滑方法對所述背景扣除光譜進行平滑處理得到平滑光譜;
光譜相似度計算部,計算所述平滑光譜的相似度;
光譜合格率判斷部,判斷所述相似度大于或等于預定閾值的所述平滑光譜的合格率是否滿足預定合格率;
光譜合并部,當所述合格率滿足預定合格率時,按預定合并方法,將所述相似度大于或等于預定閾值的平滑光譜進行合并得到合并光譜;
搜索獲取部,基于校正標準物質名稱,從所述標準物質光譜庫中搜索并獲取相應的預定標準物質光譜;
局部最大值獲取部,根據預定獲取方法,獲取與所述預定標準物質光譜相對應的標準局部最大值,并獲取與所述校正標準物質光譜相對應的校正局部最大值;
位移偏差值計算部,從所述預定標準物質光譜中獲取與所述標準局部最大值相對應的標準位移值,并從所述校正標準物質光譜中獲取與所述校正局部最大值相對應的校正位移值,將所述標準位移值與所述校正位移值相減,得到位移偏差值;
位移修正曲線擬合部,以所述標準位移值的數值為橫坐標,按預定擬合方法對所述位移偏差值進行擬合得到相應的位移修正曲線,該位移修正曲線的縱坐標稱為位移修正值;
位移修正部,基于所述位移修正曲線,對所述合并光譜進行位移值修正計算得到位移修正光譜;
最終光譜設定部,設定所述位移修正光譜為最終光譜。
3.根據權利要求1或2所述的光譜處理裝置,其特征在于:
其中,所述預定扣除方法為自適應迭代懲罰最小二乘方法。
4.根據權利要求1或2所述的光譜處理裝置,其特征在于:
其中,所述預定平滑方法為Whittaker懲罰最小二乘法。
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