[發(fā)明專利]基于電控磁富集?分離和全內(nèi)反射磁成像的光學(xué)檢測(cè)儀

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610958552.2
• 申請(qǐng)日: 2016-10-27
• 公開（公告）號(hào): CN106596473A
• 公開（公告）日: 2017-04-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉春秀;賈建;蔡浩原;劉昶
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院電子學(xué)研究所
• 主分類號(hào): G01N21/55
• 分類號(hào): G01N21/55;G01N21/01
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司11021
• 代理人: 任巖

1.一種光學(xué)檢測(cè)儀，包括光學(xué)檢測(cè)結(jié)構(gòu)，其用于對(duì)待測(cè)樣品進(jìn)行光學(xué)檢測(cè)，其特征在于，

還包括電控磁富集-分離結(jié)構(gòu)，其用于對(duì)待測(cè)樣品中的復(fù)合磁微粒子進(jìn)行富集和分離。

2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)檢測(cè)儀，其特征在于，

所述的電控磁富集-分離結(jié)構(gòu)包括檢測(cè)芯片和兩個(gè)電磁線圈，所述的兩個(gè)電磁線圈位于所述檢測(cè)芯片的上下兩側(cè)，并且所述兩電磁線圈之間的中軸線與所述檢測(cè)芯片所在水平面相互垂直；

所述光學(xué)檢測(cè)結(jié)構(gòu)包括光源和檢測(cè)裝置，光源發(fā)射的入射光線以一定的入射角度入射到所述檢測(cè)芯片和所述上下兩個(gè)電磁線圈之間中軸線的交匯處，即檢測(cè)區(qū)域，并反射到所述檢測(cè)裝置。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)檢測(cè)儀，其特征在于，所述的入射光線的入射角度和檢測(cè)裝置接收反射光線的反射角度為40～75度。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)檢測(cè)儀，其特征在于，所述的檢測(cè)芯片具備微流控結(jié)構(gòu)，所述微流控結(jié)構(gòu)的中心位置與所述檢測(cè)芯片和所述上下兩個(gè)電磁線圈之間中軸線的交匯處相互重合。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)檢測(cè)儀，其特征在于，所述的檢測(cè)芯片制備材料是透明材料。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)檢測(cè)儀，其特征在于，所述的兩個(gè)電磁線圈為小型加強(qiáng)磁柱或磁片。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)檢測(cè)儀，其特征在于，所述的小型加強(qiáng)磁柱或磁片具有加強(qiáng)磁性的鐵芯或鈷鎳鐵芯。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)檢測(cè)儀，其特征在于，所述的兩個(gè)電磁線圈的線圈數(shù)為50～800匝。

9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)檢測(cè)儀，其特征在于，所述的電控磁富集-分離結(jié)構(gòu)還包括：電磁控制電路，所述的電磁控制電路結(jié)構(gòu)用于按照一定的頻率給所述兩個(gè)電磁線圈分別交替加電或斷電從而在其之間產(chǎn)生交替磁場(chǎng)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)檢測(cè)儀，其特征在于，還包括恒溫加熱結(jié)構(gòu)，用于實(shí)現(xiàn)檢測(cè)區(qū)域的恒溫環(huán)境。

11.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)檢測(cè)儀，其特征在于，所述的光學(xué)檢測(cè)結(jié)構(gòu)還包括一個(gè)封閉的暗盒，所述的暗盒內(nèi)壁進(jìn)行涂黑處理，用于排除外界光線干擾。

12.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)檢測(cè)儀，其特征在于，所述的光學(xué)檢測(cè)結(jié)構(gòu)還包括光源控制電路板，用于控制光源產(chǎn)生入射光線。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光學(xué)檢測(cè)儀，其特征在于，所述的光源為L(zhǎng)ED或激光光源。

14.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)檢測(cè)儀，其特征在于，所述的檢測(cè)裝置為顯微鏡頭、遠(yuǎn)心鏡頭、CCD相機(jī)或CMOS相機(jī)、發(fā)光二極管或光電倍增管。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的光學(xué)檢測(cè)儀，其特征在于，所述的CCD相機(jī)或CMOS相機(jī)與所述的顯微鏡頭或遠(yuǎn)心鏡頭配合使用，并且用于檢測(cè)微米尺寸的圖像。

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光學(xué)檢測(cè)儀，其特征在于，所述的遠(yuǎn)心鏡頭的景深和檢測(cè)區(qū)域的表面積相匹配，用于獲取清晰的面陣圖像。

17.一種光學(xué)檢測(cè)方法，基于權(quán)利要求1-16中任一項(xiàng)所述的光學(xué)檢測(cè)儀，所述方法包括：

所述的光源發(fā)射入射光線以一定入射角度至檢測(cè)芯片上的待測(cè)樣品；

電磁控制電路控制檢測(cè)芯片上下兩個(gè)電磁線圈在待測(cè)樣品上產(chǎn)生交替磁場(chǎng)；

檢測(cè)裝置接收經(jīng)過(guò)反射的反射光線進(jìn)行圖像拍攝。