[發(fā)明專利]光譜檢測(cè)修正裝置、方法以及藥品真?zhèn)闻卸ㄏ到y(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610955520.7 | 申請(qǐng)日: | 2016-10-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108007872B | 公開(公告)日: | 2020-12-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陸峰;柳艷;陳輝;朱青霞;陳秀娟;武媚然 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)人民解放軍第二軍醫(yī)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N21/25 | 分類號(hào): | G01N21/25 |
| 代理公司: | 上海德昭知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31204 | 代理人: | 郁旦蓉 |
| 地址: | 200433 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光譜 檢測(cè) 修正 裝置 方法 以及 藥品 真?zhèn)?/a> 判定 系統(tǒng) | ||
1.一種光譜檢測(cè)修正裝置,對(duì)來自于不同光譜數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)的不同藥品光譜進(jìn)行質(zhì)量檢測(cè),并基于存儲(chǔ)有與預(yù)定采集系統(tǒng)型號(hào)相對(duì)應(yīng)的不同標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)光譜的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)光譜庫(kù),對(duì)進(jìn)行質(zhì)量檢測(cè)后合格的所述藥品光譜進(jìn)行修正處理,其特征在于,包括:
光譜質(zhì)量檢測(cè)部分和光譜修正部分,
其中,所述光譜質(zhì)量檢測(cè)部分用于對(duì)不同的所述藥品光譜的質(zhì)量進(jìn)行檢測(cè),從而保證藥品光譜質(zhì)量符合關(guān)于藥品的后續(xù)真?zhèn)闻卸ǖ姆治鲆螅哂校?/p>
接收部,接收所述藥品光譜,與該藥品光譜相對(duì)應(yīng)并且至少含有藥品名稱、位移值、強(qiáng)度值、噪聲值、最大響應(yīng)參考值和光譜采集系統(tǒng)型號(hào),以及與所述光譜采集系統(tǒng)相對(duì)應(yīng)的校正標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)名稱以及相應(yīng)的校正標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)光譜;
第一獲取判斷部,從原始光譜數(shù)據(jù)中獲取最大位移值和最小位移值,并判斷是否滿足所述最小位移值小于預(yù)定下限值,所述最大位移值大于預(yù)定上限值的第一條件;
第一設(shè)定部,當(dāng)判斷滿足所述第一條件時(shí),設(shè)定所述藥品光譜為第一條件合格光譜;
第二獲取判斷部,從所述原始光譜數(shù)據(jù)中獲取最大強(qiáng)度值,并判斷是否滿足所述最大強(qiáng)度值小于最大量程值的第二條件;
第二設(shè)定部,當(dāng)判斷滿足所述第二條件時(shí),設(shè)定所述藥品光譜為第二條件合格光譜;
第三獲取判斷部,根據(jù)預(yù)定獲取規(guī)則從所述原始光譜數(shù)據(jù)的所述強(qiáng)度值中獲取預(yù)定數(shù)量的極大值,并將該極大值作為特征峰值,同時(shí)獲取與該特征峰值相對(duì)應(yīng)的噪聲值,并判斷是否滿足所述特征峰值和所述噪聲值的比值在預(yù)定比值范圍內(nèi)的第三條件;
第三設(shè)定部,當(dāng)判斷滿足所述第三條件時(shí),設(shè)定所述藥品光譜為第三條件合格光譜;
判定部,當(dāng)所述藥品光譜被設(shè)定為第一條件合格光譜、第二條件合格光譜、第三條件合格光譜時(shí),判定所述藥品光譜為合格光譜,
所述光譜修正部分用于并基于所述標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)光譜庫(kù),對(duì)所述合格光譜進(jìn)行修正,并將修正完的所述合格光譜設(shè)定為最終光譜,
所述預(yù)定下限值為150到250中的任意一個(gè)值,
所述預(yù)定上限值為2500~2700中的任意一個(gè)值,
所述預(yù)定比值范圍為2到100。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光譜檢測(cè)修正裝置,其特征在于:
其中,所述光譜修正部分具有:
搜索獲取部,基于所述校正標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)名稱,從所述標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)光譜庫(kù)中搜索并獲取相應(yīng)的預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)光譜;
局部最大值獲取部,根據(jù)預(yù)定獲取方法,從所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)光譜中獲取標(biāo)準(zhǔn)局部最大值,并從所述校正標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)光譜中獲取校正局部最大值;
位移偏差值計(jì)算部,從所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)光譜中獲取與所述標(biāo)準(zhǔn)局部最大值相對(duì)應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)位移值,并從所述校正標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)光譜中獲取與所述局部最大值相對(duì)應(yīng)的校正位移值,將所述標(biāo)準(zhǔn)位移值與所述校正位移值相減,得到位移偏差值;
位移修正曲線擬合部,以所述標(biāo)準(zhǔn)位移值的數(shù)值為橫坐標(biāo),按預(yù)定擬合方法對(duì)所述位移偏差值進(jìn)行擬合得到相應(yīng)的位移修正曲線,該位移修正曲線的縱坐標(biāo)稱為位移修正值;
位移修正部,基于所述位移修正曲線,對(duì)所述合格光譜進(jìn)行位移值修正計(jì)算得到位移修正光譜;以及
最終光譜設(shè)定部,設(shè)定所述位移修正光譜為最終光譜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光譜檢測(cè)修正裝置,其特征在于:
其中,所述預(yù)定獲取規(guī)則為:當(dāng)所述極大值的附近連續(xù)數(shù)值內(nèi)所述強(qiáng)度值上升、同時(shí)連續(xù)數(shù)值內(nèi)所述強(qiáng)度值下降時(shí),設(shè)定所述極大值為特征峰值,所述連續(xù)數(shù)值為3~21中任意一個(gè)奇數(shù)值。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光譜檢測(cè)修正裝置,其特征在于:
其中,所述位移修正部包括:
位移修正值獲取單元,基于所述合格光譜或平滑光譜的位移值,從所述位移修正曲線中獲取相應(yīng)的所述位移修正值;
位移修正計(jì)算單元,將獲取的所述位移修正值與相應(yīng)的所述位移值進(jìn)行相加。
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- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法和檢測(cè)組件
- 檢測(cè)方法、檢測(cè)裝置和檢測(cè)系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法以及記錄介質(zhì)
- 檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)系統(tǒng)和檢測(cè)方法
- 檢測(cè)芯片、檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)系統(tǒng)和檢測(cè)方法
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)設(shè)備及檢測(cè)方法
- 檢測(cè)芯片、檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)系統(tǒng)
- 檢測(cè)組件、檢測(cè)裝置以及檢測(cè)系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法及檢測(cè)程序
- 檢測(cè)電路、檢測(cè)裝置及檢測(cè)系統(tǒng)





