[發(fā)明專利]一種基于反射率光譜測量光學(xué)薄膜厚度的方法及系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610948968.6 | 申請日： | 2016-10-26 |
| 公開（公告）號： | CN106441126A | 公開（公告）日： | 2017-02-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 彭先德;向勇 | 申請（專利權(quán)）人： | 電子科技大學(xué) |
| 主分類號： | G01B11/06 | 分類號： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 成都玖和知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)51238 | 代理人： | 黎祖琴 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 國省代碼： | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 基于 反射率 光譜 測量 光學(xué)薄膜 厚度 方法 系統(tǒng) | ||
【說明書】：
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