[發明專利]化學增幅型正型抗蝕劑組合物和圖案化方法有效
| 申請號: | 201610948118.6 | 申請日: | 2016-10-27 |
| 公開(公告)號: | CN106610566B | 公開(公告)日: | 2021-10-08 |
| 發明(設計)人: | 平野禎典;柳澤秀好 | 申請(專利權)人: | 信越化學工業株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/039 | 分類號: | G03F7/039;G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司: | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人: | 杜麗利 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 化學 增幅 型正型抗蝕劑 組合 圖案 方法 | ||
1.化學增幅型正型抗蝕劑組合物,其包括
(A)適應于在酸的作用下變成可溶于堿性水溶液中的聚合物,其包括具有通式(1)的重復單元并具有1,000至500,000的重均分子量,
其中,R14為氫、羥基、直鏈烷基、支鏈烷基、鹵素、或三氟甲基,R15為氫、羥基、鹵素或三氟甲基,R16為C4-C12叔烷基,R17為氫、任選被取代的烷基、任選被取代的烷氧基、-C(CF3)2-OH、其中每個烷基結構部分具有1至6個碳原子的三烷基甲硅烷基、C4-C20氧代烷氧基、四氫吡喃基氧基、四氫呋喃基氧基或三烷基甲硅烷基,R18為氫或甲基,R19為氫、甲基、烷氧基羰基、氰基、鹵素、或三氟甲基,R20為C4-C30取代或未取代的、直鏈或支鏈的烷基或者取代或未取代的環烷基,u為0或1至4的整數,t為0或1至5的整數,p、r和s各自為0或正數,q為正數,p+q+r+s=1,
(B)包含羥基和/或羧基并具有1,000至100,000的重均分子量的堿溶性聚合物,所述聚合物可溶于堿性水溶液并具有在2.38重量%的四甲基氫氧化銨水溶液中的400至的堿性溶解速率,所述堿溶性聚合物以相對于每100重量份式(1)的聚合物為3至35重量份的量使用,
(C)光致產酸劑,和
(D)有機溶劑,
其中所述堿溶性聚合物(B)選自酚醛樹脂、氨基甲酸酯樹脂、聚羥基苯乙烯、羥基苯乙烯與含羧基的乙烯基單體的共聚物、含羧基單體的均聚物或共聚物,羥基苯乙烯與含羧基單體的共聚物,和堿溶性纖維素。
2.根據權利要求1所述的抗蝕劑組合物,其中在式(1)中,p和q在以下范圍內:0.3≤p/(p+q+r+s)≤0.8和0q/(p+q+r+s)≤0.5。
3.根據權利要求1所述的抗蝕劑組合物,其中在式(1)中,p、q和s在以下范圍內:0.3≤p/(p+q+r+s)≤0.8,0q/(p+q+r+s)≤0.5和0s/(p+q+r+s)0.3。
4.根據權利要求3所述的抗蝕劑組合物,其中在式(1)中,R20為選自下式(4)、(5)、(6')、(6)、(6')和(6)的基團:
其中,R27為甲基、乙基、異丙基、環己基、環戊基、乙烯基、乙酰基、苯基、芐基或氰基,b為0至3的整數,
其中,R28為甲基、乙基、異丙基、環己基、環戊基、乙烯基、苯基、芐基或氰基,
其中,*表示價鍵。
5.根據權利要求1所述的抗蝕劑組合物,其中所述堿溶性聚合物(B)選自酚醛樹脂,氨基甲酸酯樹脂,聚羥基苯乙烯,羥基苯乙烯和含羧基的乙烯基單體的共聚物,含羧基單體的均聚物,選自丙烯酸、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯酸酯和馬來酸的含羧基單體的共聚物,羥基苯乙烯和含羧基單體的共聚物,以及堿溶性纖維素。
6.根據權利要求1所述的抗蝕劑組合物,其中所述堿溶性聚合物(B)是酚醛清漆樹脂。
7.圖案形成方法,包括以下步驟:
(i)將根據權利要求1所述的化學增幅型正型抗蝕劑組合物涂布至基材上并預烘焙以形成抗蝕劑膜,
(ii)將所述抗蝕劑膜曝光至具有至少300nm的波長的UV輻照,和
(iii)任選地烘焙,并將所述抗蝕劑膜在堿性水溶液中顯影。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于信越化學工業株式會社,未經信越化學工業株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610948118.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





