[發明專利]一種用于反射鏡光學加工原位檢測的裝置及使用方法有效
| 申請號: | 201610945836.8 | 申請日: | 2016-11-02 |
| 公開(公告)號: | CN106568393B | 公開(公告)日: | 2019-02-22 |
| 發明(設計)人: | 胡海飛;羅霄;薛棟林;張學軍 | 申請(專利權)人: | 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所 |
| 主分類號: | G01B11/24 | 分類號: | G01B11/24 |
| 代理公司: | 北京理工大學專利中心 11120 | 代理人: | 李微微;仇蕾安 |
| 地址: | 130033 吉*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 加工 反射鏡光學 密封腔體 原位檢測 支撐系統 反射鏡 膜片 壓強 反射鏡邊緣 微重力狀態 鏡面 包裹形狀 剛體位移 光學加工 控制膜片 力傳感器 密封膜片 氣壓可調 支撐單元 檢測光 密封腔 支撐墊 磁鐵 支撐 充氣 法向 基板 鏡體 面形 示數 修形 壓模 預埋 抵消 精密 變形 體內 包圍 外部 吸引 保證 | ||
1.一種用于反射鏡光學加工原位檢測的裝置,其特征在于,包括基板(1)、密封膜片(2)、加工支撐單元(10)以及檢測支撐單元(11);
所述加工支撐單元(10)的數量為至少3個,安裝在基板(1)上;所述檢測支撐單元(11)的數量為至少3個,安裝在基板(1)上;所述密封膜片(2)的邊緣固定在所述基板(1)上,密封膜片(2)和基板(1)所包圍的腔體形成密封腔體;待加工和檢測的反射鏡(4)置于密封膜片(2)上;
當只有一個密封膜片(2)時,加工支撐單元(10)以及檢測支撐單元(11)均隱藏在密封腔體內部,加工支撐單元(10)可以上下調整。
2.如權利要求1所述的一種用于反射鏡光學加工原位檢測的裝置,其特征在于,所述密封膜片(2)為一個。
3.如權利要求2所述的一種用于反射鏡光學加工原位檢測的裝置,其特征在于,還包括環狀的膜片壓模(3),安裝在所述密封膜片(2)的側邊緣外側;膜片壓模(3)的內側邊緣加工有凸起;所述凸起的高度和長度滿足:在所述密封腔體充氣后,膜片壓模(3)的凸起接近所述反射鏡(4)的邊緣,原位檢測狀態時,所述凸起與密封膜片(2)的接觸面與所述反射鏡(4)的背面相切。
4.如權利要求1所述的一種用于反射鏡光學加工原位檢測的裝置,其特征在于,所述密封膜片(2)為兩個以上;反射鏡(4)覆蓋于所有密封膜片(2)上;加工支撐單元(10)以及檢測支撐單元(11)安裝在密封膜片(2)之間的空隙。
5.如權利要求4所述的一種用于反射鏡光學加工原位檢測的裝置,其特征在于,還包括環狀的膜片壓模(3),安裝在所有密封膜片(2)的包絡的外側邊緣;膜片壓模(3)的內側邊緣加工有凸起;所述凸起的高度和長度滿足:在所述密封腔體充氣后,膜片壓模(3)的凸起接近所述反射鏡(4)的邊緣,原位檢測狀態時,所述凸起與密封膜片(2)的接觸面與所述反射鏡(4)的背面相切。
6.如權利要求1至5中任意一個所述的一種用于反射鏡光學加工原位檢測的裝置,其特征在于,所述檢測支撐單元(11)包括力傳感器(5)、支撐墊(7)、連接桿(8)以及固定桿(9);所述固定桿(9)安裝在基板(1)上;所述力傳感器(5)安裝在固定桿(9)上;所述連接桿(8)安裝在力傳感器(5)上;所述支撐墊(7)安裝在連桿(8)上。
7.如權利要求6所述的一種用于反射鏡光學加工原位檢測的裝置,其特征在于,所述支撐墊(7)采用磁性材料;所述檢測支撐單元(11)還包括預埋磁鐵,安裝在反射鏡(4)之上并與支撐墊(7)對應的位置上。
8.如權利要求1所述的一種用于反射鏡光學加工原位檢測的裝置,其特征在于,所述加工支撐單元(10)均分成3或6個組,每組至少包括1個加工支撐單元(10),所述基板(1)表面均分成3或6個區域,每一個區域放置一組加工支撐單元(10);每個區域形心處安裝一個檢測支撐單元(11)。
9.如權利要求1所述的一種用于反射鏡光學加工原位檢測的裝置,其特征在于,在反射鏡(4)與密封膜片(2)之間鋪撒一層微粉。
10.如權利要求6所述的一種用于反射鏡光學加工原位檢測的裝置,其特征在于,所述力傳感器的精度優于0.1%。
11.如權利要求6所述的一種用于反射鏡光學加工原位檢測的裝置,其特征在于,預埋磁鐵(6)和支撐墊(7)分別與密封膜片(2)接觸的表面粗糙度均大于3.2。
12.如權利要求1所述的一種用于反射鏡光學加工原位檢測的裝置,其特征在于,加工支撐單元(10)采用液壓支撐或者Hindle/whiffletree型多點支撐方式。
13.如權利要求1所述的一種用于反射鏡光學加工原位檢測的裝置,其特征在于,還包括側限位拉桿,安裝在反射鏡(4)的側面。
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