[發明專利]一種等離子刻蝕機水平度的自動調節裝置及方法

有效

• 申請號: 201610945576.4
• 申請日: 2016-11-02
• 公開（公告）號: CN108022820B
• 公開（公告）日: 2020-03-24
• 發明（設計）人: 劉季霖;連增迪;吳狄
• 申請（專利權）人: 中微半導體設備（上海）股份有限公司
• 主分類號: H01J37/02
• 分類號: H01J37/02;H01J37/305
• 代理公司: 上海信好專利代理事務所(普通合伙) 31249
• 代理人: 朱成之

1.一種等離子刻蝕機水平度的自動調節裝置，其中，所述的等離子刻蝕機包含：

刻蝕機腔體，由位于頂端的頂蓋，位于底端的底壁，以及連接在頂蓋和底壁之間的側壁構成；

靜電吸盤，設置在刻蝕機腔體內的底壁上方，與刻蝕機腔體之間平行設置，承載及吸持基片；

其特征在于，所述的自動調節裝置包含：

傾角傳感器，固定安裝在等離子刻蝕機的靜電吸盤的圓心位置處，或者固定安裝在刻蝕機腔體的頂蓋的圓心位置處，且與承載基片的靜電吸盤平行設置，用于檢測等離子刻蝕機的傾斜角度與傾斜方向；

多個調節組件，分別連接設置在等離子刻蝕機的底部下方；

控制器，分別與傾角傳感器以及各個調節組件連接，根據接收到的離子刻蝕機的傾斜角度與傾斜方向，控制各個調節組件對應進行升高或降低操作，調節等離子刻蝕機處于水平狀態。

2.如權利要求1所述的等離子刻蝕機水平度的自動調節裝置，其特征在于，所述的傾角傳感器嵌入設置在靜電吸盤內，或者通過機械結構固定連接在靜電吸盤的底部下方。

3.如權利要求1所述的等離子刻蝕機水平度的自動調節裝置，其特征在于，所述的傾角傳感器嵌入設置在頂蓋內，或者通過機械結構固定連接在頂蓋的頂部上方。

4.如權利要求2或3所述的等離子刻蝕機水平度的自動調節裝置，其特征在于，每個所述的調節組件包含：

支架；

電機，設置在支架上，與控制器連接；

絲杠，設置在支架內，一端與等離子刻蝕機的底部連接，另一端與電機連接；

其中，所述的電機根據控制器發出的控制信號，驅動絲杠升高或降低，調節等離子刻蝕機的水平度。

5.如權利要求4所述的等離子刻蝕機水平度的自動調節裝置，其特征在于，所述的調節組件還包含地腳，設置在支架的底部，穩定支撐整個調節組件。

6.如權利要求4所述的等離子刻蝕機水平度的自動調節裝置，其特征在于，至少采用三個調節組件，在一個穩定的平面內支撐并調節等離子刻蝕機的水平度。

7.一種等離子刻蝕機，其特征在于，包含上述權利要求1～6中任一項所述的自動調節裝置。

8.一種等離子刻蝕機水平度的自動調節方法，采用上述權利要求1～6中任一項所述的自動調節裝置實現，其特征在于，包含以下步驟：

S1、將傾角傳感器固定安裝在等離子刻蝕機的靜電吸盤的圓心位置處，或者固定安裝在刻蝕機腔體的頂蓋的圓心位置處，且與等離子刻蝕機中承載基片的靜電吸盤平行設置；

S2、傾角傳感器檢測等離子刻蝕機的傾斜角度與傾斜方向，并轉換成對應的電信號輸出；

S3、控制器接收傾角傳感器輸出的傾斜角度與傾斜方向的電信號，進行分解分析，并輸出控制信號至各個調節組件；

S4、各個調節組件根據接收到的控制信號進行升高或降低操作，調節等離子刻蝕機的水平度。

9.如權利要求8所述的等離子刻蝕機水平度的自動調節方法，其特征在于，所述的S3中，具體為：控制器對接收到的傾斜角度與傾斜方向的電信號進行平面分解，確定所對應的各個調節組件需要上升或降低的高度，向各個調節組件的電機發送控制信號。

10.如權利要求8所述的等離子刻蝕機水平度的自動調節方法，其特征在于，所述的S4中，具體為：各個調節組件的電機根據接收到的控制信號，驅動對應的絲杠進行相應高度的升降，實現等離子刻蝕機水平度的調節。