[發(fā)明專利]光刻機水平向測量裝置及方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610934216.4
• 申請日: 2016-10-31
• 公開（公告）號: CN108020995B
• 公開（公告）日: 2020-05-01
• 發(fā)明（設計）人: 楊玉杰
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01B11/16
• 代理公司: 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種光刻機水平向測量裝置，其特征在于，包括整機框架、設于所述整機框架上的投影物鏡單元、物鏡傾角測量單元和物鏡傾角補償單元，所述物鏡傾角測量單元包括與所述投影物鏡單元鏡筒上方位對應的第一位置測量單元、與所述投影物鏡單元鏡筒下方位對應的第二位置測量單元以及位于所述投影物鏡單元一側(cè)的主支架；

所述第一位置測量單元包括固設于所述主支架上的掩模臺干涉儀支架、設于所述掩模臺干涉儀支架上的掩模臺測量干涉儀和物鏡掩模臺參考干涉儀、以及設于所述投影物鏡單元上方且與所述物鏡掩模臺參考干涉儀對應的物鏡掩模臺參考鏡，所述物鏡掩模臺參考干涉儀設于所述掩模臺測量干涉儀下方；

所述第二位置測量單元包括固設于所述主支架上的工件臺干涉儀支架、設于所述工件臺干涉儀支架上的工件臺測量干涉儀和物鏡工件臺參考干涉儀、以及設于所述投影物鏡單元下方且與所述物鏡工件臺參考干涉儀對應的物鏡工件臺參考鏡，所述物鏡工件臺參考干涉儀設于所述工件臺測量干涉儀上方。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機水平向測量裝置，其特征在于，所述第一位置測量單元還包括設于所述掩模臺干涉儀支架上的主基板掩模臺參考干涉儀和設于所述主基板上且與所述主基板掩模臺參考干涉儀對應的主基板掩模臺參考鏡，所述主基板掩模臺參考干涉儀和所述物鏡掩模臺參考干涉儀具有水平向相同，垂向有高度差的位置關系。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機水平向測量裝置，其特征在于，所述第二位置測量單元還包括設于所述工件臺干涉儀支架上的主基板工件臺參考干涉儀和設于主基板上且與所述主基板工件臺參考干涉儀對應的主基板工件臺參考鏡，所述主基板工件臺參考干涉儀和物鏡掩模臺參考干涉儀和主基板掩模臺參考干涉儀具有水平向相同，垂向有高度差的位置關系。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機水平向測量裝置，其特征在于，所述整機框架采用鋼件制成，所述投影物鏡單元采用陶瓷件材料框架制成。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機水平向測量裝置，其特征在于，所述第一位置測量單元包括固設于主支架上的掩模臺干涉儀支架、設于所述掩模臺干涉儀支架上的掩模臺測量干涉儀和設于掩模臺上的掩模臺長條鏡和角錐鏡。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機水平向測量裝置，其特征在于，所述第二位置測量單元包括固設于主支架上的工件臺干涉儀支架、設于所述工件臺干涉儀支架上的工件臺測量干涉儀和設于工件臺上的工件臺長條鏡。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機水平向測量裝置，其特征在于，所述投影物鏡單元下方還設有調(diào)焦調(diào)平傳感器。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機水平向測量裝置，其特征在于，所述主支架設于主基板上。

9.一種如權(quán)利要求1所述的光刻機水平向測量裝置的測量方法，其特征在于，通過所述第一位置測量單元和第二位置測量單元測量投影物鏡單元相對所述主支架的傾角，所述物鏡傾角補償單元根據(jù)所述傾角計算工件臺和掩模臺之間的偏移量，移動掩模臺和工件臺進行補償。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的測量方法，其特征在于，還包括通過調(diào)焦調(diào)平傳感器對工件臺和掩模臺進行水平向?qū)省?/p>