[發明專利]基板校準裝置以及檢測系統

有效

• 申請號: 201610925898.2
• 申請日: 2016-10-31
• 公開（公告）號: CN108010875B
• 公開（公告）日: 2020-04-14
• 發明（設計）人: 岳力挽;伍強
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司;中芯國際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類號: H01L21/68
• 分類號: H01L21/68;H01L21/67
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 劉倜

1.一種基板校準裝置，其特征在于，包括：

多個狀態檢測單元，所述狀態檢測單元能夠從待命位置移動到檢測位置來檢測所述基板的位置狀態，以及從檢測位置回到待命位置；

多維機械臂，用于：

接收并支承所述基板，

將所述基板傳送到基板檢測場所，以及

根據所述狀態檢測單元檢測的所述基板的位置狀態在至少一個維度上調整所述基板，以使所述基板處于目標位置。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，

所述基板是半導體晶片，

所述多個狀態檢測單元中至少一個狀態檢測單元用于檢測晶片的定位邊，其余的狀態檢測單元用于檢測晶片的邊緣。

3.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，

所述多個狀態檢測單元包括4個狀態檢測單元，所述4個狀態檢測單元被配置為分別排列在四邊形的四個頂角的位置。

4.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，

所述狀態檢測單元包括光電傳感器，當所述狀態檢測單元處于檢測位置時，其光電傳感器與所述基板的邊緣的一部分對準。

5.根據權利要求4所述的裝置，其特征在于，

所述光電傳感器包括光源和光接收器，所述光源用于發射光線到所述基板，所述光接收器用于接收從所述基板反射回來的光線，以檢測所述基板的邊緣位置；

其中，所述多個狀態檢測單元的光電傳感器處于一個基準平臺。

6.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，

所述多維機械臂為六個自由度的機械臂，用于對所述基板執行X-平移、Y-平移、Z-平移、X-Y平面旋轉、X-傾斜或Y-傾斜的調整。

7.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括：

導軌結構，包括彼此平行地延伸的導軌對；

檢測裝置，被配置為可操作地沿至少一個所述導軌結構移動來對所述基板進行檢測，所述檢測裝置包括用于檢測的光學系統；

所述使所述基板處于目標位置包括下列中的至少一個：使基板的至少一部分處于所述檢測裝置的光學系統的檢測視場內，以及使基板的至少一部分的待檢測表面處于該光學系統的成像目標區域內。

8.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，

所述多維機械臂包括用于接收和支承所述基板的支承臺，

所述至少一個導軌結構在所述支承臺的上方且與所述支承臺分離開。

9.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，所述導軌結構包括：

第一導軌和第二導軌，在一延伸方向上彼此平行地延伸；

第一滑塊和第二滑塊，固著到所述檢測裝置，所述第一滑塊能夠沿所述第一導軌滑動，所述第二滑塊能夠沿所述第二導軌滑動，從而使得所述檢測裝置能夠在所述延伸方向上在所述基板上方移動通過。

10.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，

所述導軌結構為氣墊導軌，在操作時，在所述檢測裝置與所述氣墊導軌之間形成氣墊。

11.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，

所述檢測裝置包括：位于上部的第一檢測裝置和位于下部的第二檢測裝置；

所述導軌結構包括：位于上部的用于所述第一檢測裝置的在第一方向上延伸的第一導軌結構和位于下部的用于所述第二檢測裝置的在第二方向延伸的第二導軌結構。

12.根據權利要求11所述的裝置，其特征在于，

所述第一檢測裝置在所述第一導軌結構上采用吊掛式滑動；

所述第二檢測裝置在所述第二導軌結構上采用支撐式滑動。

13.根據權利要求11所述的裝置，其特征在于，所述第一方向與所述第二方向垂直。