[發(fā)明專利]一種等離子刻蝕設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610924485.2 | 申請日： | 2016-10-24 |
| 公開（公告）號： | CN106328475A | 公開（公告）日： | 2017-01-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 李定斌;闞保國;彭國發(fā);張旭升;朱駿;呂煜坤;劉東升 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32;H01L21/683 |
| 代理公司： | 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 等離子 刻蝕 設(shè)備 | ||
【權(quán)利要求書】：
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