[發明專利]一種RH精煉裝置中真空槽裝置有效
| 申請號: | 201610922093.2 | 申請日: | 2016-10-21 |
| 公開(公告)號: | CN106521098B | 公開(公告)日: | 2018-04-03 |
| 發明(設計)人: | 張立峰;劉暢;朱國森 | 申請(專利權)人: | 北京科技大學 |
| 主分類號: | C21C7/10 | 分類號: | C21C7/10 |
| 代理公司: | 北京市廣友專利事務所有限責任公司11237 | 代理人: | 張仲波 |
| 地址: | 100083*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 rh 精煉 裝置 真空 | ||
1.一種RH精煉裝置中真空槽裝置,其特征在于:包括真空室(1)、鋼包(2)、上升管(3)和下降管(4),其中,真空室(1)與真空泵(8)連接,上升管(3)和下降管(4)設置在真空室(1)下部,上升管(3)和下降管(4)浸入鋼包(2)內的鋼液(6)中,吹氣裝置(5)與上升管(3)相連,上升管(3)和下降管(4)外部包裹耐火材料(7);上升管(3)橫截面為圓形,下降管(4)橫截面為橢圓形,下降管(4)的長軸方向與上升管(3)和下降管(4)的排列方向垂直,上升管(3)半徑與下降管(4)短軸長度一致。
2.根據權利要求1所述的RH精煉裝置中真空槽裝置,其特征在于:所述下降管(4)橫截面積不小于上升管(3)橫截面積。
3.根據權利要求1所述的RH精煉裝置中真空槽裝置,其特征在于:所述下降管(4)橫截面積是上升管(3)橫截面積的1~2倍。
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