[發(fā)明專利]一種浸沒式掩模冷卻裝置及冷卻方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610920670.4
• 申請(qǐng)日: 2016-10-21
• 公開（公告）號(hào): CN107976868B
• 公開（公告）日: 2020-02-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孟春霞;聞人青青;張俊
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時(shí)云

1.一種浸沒式掩模冷卻裝置，其特征在于，包括圍設(shè)于掩模外側(cè)的冷卻框架，所述冷卻框架頂部設(shè)有透明罩板，所述冷卻框架與所述透明罩板密封連接，所述冷卻框架的內(nèi)側(cè)壁、所述掩模的上表面以及所述透明罩板的下表面形成密閉空間，所述密閉空間內(nèi)通有流動(dòng)的冷媒；

所述冷卻框架的側(cè)面設(shè)有進(jìn)入口，所述冷卻框架上與所述進(jìn)入口相對(duì)的一側(cè)設(shè)有排出口，所述冷媒從所述進(jìn)入口進(jìn)入所述密閉空間，從所述排出口流出；

所述冷卻框架的內(nèi)表面設(shè)有密封卡夾，所述密封卡夾的位置與所述掩模的側(cè)壁的位置對(duì)應(yīng)，所述密封卡夾與驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)相連，所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述密封卡夾脫離所述掩模或者與所述掩模緊密接觸。

2.如權(quán)利要求1所述的浸沒式掩模冷卻裝置，其特征在于，所述進(jìn)入口和排出口為一對(duì)或多對(duì)。

3.如權(quán)利要求1或2所述的浸沒式掩模冷卻裝置，其特征在于，所述冷媒為液體，所述進(jìn)入口與冷卻水連通，所述排出口與排水系統(tǒng)相連。

4.如權(quán)利要求1或2所述的浸沒式掩模冷卻裝置，其特征在于，所述冷媒為氣體，所述進(jìn)入口與干燥空氣連通，所述排出口與排氣系統(tǒng)相連。

5.一種浸沒式掩模冷卻方法，采用如權(quán)利要求1所述的浸沒式掩模冷卻裝置，其特征在于，包括如下步驟：

S1：機(jī)械手拾取所述掩模放置到掩模臺(tái)上；

S2：真空吸附系統(tǒng)吸附所述掩模，將所述掩模的位置固定；

S3：所述冷卻框架下降到所述掩模臺(tái)上，覆蓋住所述掩模；

S4：所述冷卻框架內(nèi)的密封卡夾被推出，環(huán)繞夾緊所述掩模，形成所述密閉空間；

S5：所述冷卻框架上的進(jìn)入口打開，所述冷媒進(jìn)入并充滿所述密閉空間，淹沒所述掩模的上表面；

S6：所述冷卻框架上的排出口打開，所述冷媒循環(huán)流動(dòng)，同時(shí)開始曝光；

S7：曝光工藝完成后，所述進(jìn)入口關(guān)閉，冷媒通過所述排出口排凈；

S8：所述冷卻框架內(nèi)的密封卡夾移入所述冷卻框架內(nèi)，所述冷卻框架上升離開所述掩模臺(tái)，恢復(fù)至初始位置；

S9：所述真空吸附系統(tǒng)充氣，掩模被放開；

S10：所述掩模被機(jī)械手從所述掩模臺(tái)上移走。

6.如權(quán)利要求5所述的浸沒式掩模冷卻方法，其特征在于，先向所述密閉空間內(nèi)通入冷卻水作為冷媒，待曝光工藝完成后，冷卻水全部排出，再向所述密閉空間內(nèi)通入干燥氣體，待所述掩模完全干燥后，停止吹氣。