[發明專利]熱酸產生劑以及光致抗蝕劑圖案修整組合物和方法

在審

• 申請號: 201610916348.4
• 申請日: 2016-10-20
• 公開（公告）號: CN106631922A
• 公開（公告）日: 2017-05-10
• 發明（設計）人: I·考爾;劉驄;K·羅威爾;G·波勒爾斯;李明琦
• 申請（專利權）人: 羅門哈斯電子材料有限責任公司
• 主分類號: C07C309/58
• 分類號: C07C309/58;C07D213/61;C07D239/26;C07D239/74;C07C211/63;C07C323/20;C07C321/30;C07C25/18;C07D213/20;C07C309/60;G03F7/004
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 陳哲鋒,胡嘉倩

1.一種離子性熱酸產生劑，其具有以下通式(I)：

其中：Ar¹表示任選經取代的碳環或雜環芳香族基團；W獨立地表示選自羧基、羥基、硝基、氰基、C1-5烷氧基和甲酰基的基團；X為陽離子；Y獨立地表示鍵聯基團；Z獨立地表示選自羥基、氟化醇、酯、任選經取代的烷基、C5或更高碳的任選經取代的單環、多環、稠合多環環脂肪族、或芳基的基團，其可任選地包含雜原子，其限制條件為Z的至少一次出現為羥基；a為0或更大的整數；b為1或更大的整數；其限制條件為a+b為至少1且不超過所述芳香族基團的可用芳香族碳原子的總數。

2.根據權利要求1所述的離子性熱酸產生劑，其中所述羥基經由酯基鍵結于芳香族環。

3.根據權利要求2所述的離子性熱酸產生劑，其中陰離子包含多個羥基。

4.根據權利要求3所述的離子性熱酸產生劑，其中所述陰離子包含多個經由各別酯基鍵結于芳香族環的羥基。

5.根據權利要求1所述的離子性熱酸產生劑，其中Y獨立地選自硫、任選經取代的氨基、酰胺、醚、羰基酯、磺酰基酯、砜、磺酰胺、二價烴基和其組合。

6.根據權利要求1到5中任一項所述的離子性熱酸產生劑，其中陽離子為吡啶衍生物。

7.一種光致抗蝕劑圖案修整組合物，其包含：根據權利要求1到6中任一項所述的離子性熱酸產生劑、基質聚合物和溶劑。

8.根據權利要求7所述的光致抗蝕劑圖案修整組合物，其中所述溶劑為有機溶劑。

9.一種修整光致抗蝕劑圖案的方法，其包含：

(a)提供半導體襯底；

(b)在所述襯底上形成光致抗蝕劑圖案，其中所述光致抗蝕劑圖案由包含以下的光致抗蝕劑組合物形成：包含酸不穩定基團的基質聚合物；光酸產生劑；和溶劑；

(c)在所述襯底上在所述光致抗蝕劑圖案上方涂布根據權利要求7或8所述的光致抗蝕劑修整組合物；

(d)加熱所述經涂布襯底，進而引起所述光致抗蝕劑圖案的表面區域中的所述光致抗蝕劑基質聚合物的極性改變；以及

(e)使所述光致抗蝕劑圖案與沖洗劑接觸以去除所述光致抗蝕劑圖案的所述表面區域，進而形成經修整光致抗蝕劑圖案。