[發(fā)明專利]物料干洗裝置、廚房儲具及烹飪器具

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610916150.6
• 申請日: 2016-10-20
• 公開（公告）號: CN107960900B
• 公開（公告）日: 2023-09-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 潘典國;陳煒杰;常見虎;梅若愚;劉小凱;周亞
• 申請（專利權(quán)）人: 佛山市順德區(qū)美的電熱電器制造有限公司
• 主分類號: A47J43/24
• 分類號: A47J43/24;A47J36/00;A47J31/44;A47J47/00
• 代理公司: 北京友聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11343
• 代理人: 尚志峰;汪海屏

本發(fā)明提供了一種物料干洗裝置、廚房儲具及烹飪器具，物料干洗裝置包括研磨腔體和攪拌單元，研磨腔體的內(nèi)表面圍設(shè)出適于容納物料的容納空間，研磨腔體的內(nèi)表面上設(shè)置有研磨層；攪拌單元設(shè)置在容納空間內(nèi)，攪拌單元能夠旋轉(zhuǎn)以對容納空間內(nèi)的物料進行攪拌，使物料與研磨層表面相互摩擦；本方案提供的物料干洗裝置，可以對物料擠壓、摩擦進行研磨，去除物料表面的淀粉及其他污漬，相對于現(xiàn)有技術(shù)中采用水洗方式對物料清潔的方案而言，本方案不僅能夠達到節(jié)約用水的目的，且可以避免水洗造成物料營養(yǎng)物質(zhì)流失的問題，同時可避免容器內(nèi)或污水管道中營養(yǎng)物質(zhì)或淀粉沉積造成物料二次污染。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及廚房用具領(lǐng)域，具體而言，涉及一種物料干洗裝置、一種廚房儲具及一種烹飪器具。

背景技術(shù)

現(xiàn)有的物料清洗裝置(如洗米器)均采用向容器中輸入清潔水，并對容器內(nèi)的物料-水混合物攪拌以實現(xiàn)對物料清洗，這樣的方式存在物料營養(yǎng)流失嚴重的問題，且隨著產(chǎn)品使用時間的累積，容器內(nèi)表面和管道內(nèi)表面容易積聚淀粉等表面物質(zhì)而造成物料二次污染。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決上述技術(shù)問題至少之一，本發(fā)明的一個目的在于提供一種物料干洗裝置。

本發(fā)明的另一個目的在于提供一種具有上述物料干洗裝置的廚房儲具。

本發(fā)明的再一個目的在于提供一種具有上述物料干洗裝置的烹飪器具。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明第一方面的實施例提供了一種物料干洗裝置，包括：研磨腔體，所述研磨腔體的內(nèi)表面圍設(shè)出適于容納物料的容納空間，所述研磨腔體的內(nèi)表面上設(shè)置有研磨層；攪拌單元，設(shè)置在所述容納空間內(nèi)，所述攪拌單元能夠旋轉(zhuǎn)以對所述容納空間內(nèi)的物料進行攪拌，使物料與所述研磨層表面相互摩擦。

本發(fā)明提供的物料干洗裝置，在研磨腔體的內(nèi)表面上設(shè)置研磨層，攪拌單元對研磨腔體內(nèi)的物料進行攪拌時，使物料表面與研磨層表面擠壓、摩擦進行研磨，從而去除物料表面的淀粉及其他污漬，實現(xiàn)對物料干洗方式清潔，相對于現(xiàn)有技術(shù)中采用水洗方式對物料清潔的方案而言，本方案不僅能夠達到節(jié)約用水的目的，且可以避免水洗造成物料營養(yǎng)物質(zhì)流失的問題，同時，還可避免容器內(nèi)或污水管道中營養(yǎng)物質(zhì)或淀粉沉積造成物料二次污染的問題。

另外，本發(fā)明提供的上述實施例中的物料干洗裝置還可以具有如下附加技術(shù)特征：

上述技術(shù)方案中，所述攪拌單元的最外端與所述研磨層表面之間形成有研磨間隙，所述研磨間隙的寬度不小于物料的粒徑。

在本方案中，設(shè)置攪拌單元的最外端與研磨層表面之間形成有研磨間隙，且研磨間隙的寬度不小于物料的粒徑，一方面，研磨間隙的設(shè)置可以避免攪拌單元動作過程中與研磨腔體干涉的問題，另一方面，由于研磨間隙的寬度不小于物料的粒徑，使得部分物料可位于研磨間隙內(nèi)而不被攪拌單元刮除，這樣可以利用攪拌單元與研磨層對物料進行擠壓實現(xiàn)研磨，提高研磨效率，并提升對研磨間隙內(nèi)物料的研磨效果。

上述任一技術(shù)方案中，優(yōu)選地，所述研磨間隙的寬度不大于物料的粒徑的3倍。

在本方案中，設(shè)置研磨間隙的寬度不大于物料的粒徑的3倍，這樣可以有效保證攪拌單元與研磨層對位于研磨間隙內(nèi)的物料的擠壓效果，從而保證研磨效果。

上述任一技術(shù)方案中，優(yōu)選地，所述研磨腔體上設(shè)置有進料口和出料口，所述攪拌單元旋轉(zhuǎn)時能夠驅(qū)動所述研磨腔體內(nèi)的物料從所述進料口所在位置向所述出料口所在位置移動，其中，沿所述進料口所在位置向所述出料口所在位置的方向，所述研磨間隙的寬度呈減小趨勢。