[發(fā)明專利]一種裝飾用涂膜打底真空鍍膜的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610913499.4 | 申請日： | 2016-10-19 |
| 公開（公告）號： | CN106319446B | 公開（公告）日： | 2019-07-12 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 謝輝;周靈平;楊武霖;朱家俊;符立才;李德意 | 申請（專利權(quán)）人： | 湖南省霖輝高新材料科技有限公司;東莞市霖輝金屬表面處理材料有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/02 | 分類號： | C23C14/02;C23C14/20;C23C14/35;C23C28/00;C25D13/06;C25D13/22 |
| 代理公司： | 北京華識知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11530 | 代理人： | 趙永強 |
| 地址： | 410311 湖南省長*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 裝飾 用涂膜 打底 真空鍍膜 制備 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
