[發(fā)明專利]圖像傳感器及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610911713.2 | 申請(qǐng)日: | 2016-10-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107039471B | 公開(公告)日: | 2022-04-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 山下雄一郎;莊君豪;角博文 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/146 | 分類號(hào): | H01L27/146 |
| 代理公司: | 北京德恒律治知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;李偉 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圖像傳感器 及其 制造 方法 | ||
1.一種圖像傳感器結(jié)構(gòu),包括:
襯底,具有前側(cè)和背側(cè);
感光區(qū)域,形成在所述襯底中;
前側(cè)隔離結(jié)構(gòu),形成在所述襯底的前側(cè)處;
背側(cè)隔離結(jié)構(gòu),形成在所述襯底的背側(cè)處并且圍繞所述感光區(qū)域;以及
存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn),形成在所述襯底的鄰近所述感光區(qū)域的前側(cè)處并且垂直地嵌入在所述襯底的前側(cè)和所述背側(cè)隔離結(jié)構(gòu)之間的位置處,并且所述存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)與所述背側(cè)隔離結(jié)構(gòu)垂直重疊,
其中,所述前側(cè)隔離結(jié)構(gòu)由第一材料制成并且所述背側(cè)隔離結(jié)構(gòu)由不同于所述第一材料的第二材料制成,并且所述第二材料圍繞所述感光區(qū)域,
其中,所述前側(cè)隔離結(jié)構(gòu)形成為在所述感光區(qū)域周圍并且具有開口,使得未通過所述前側(cè)隔離結(jié)構(gòu)隔離所述感光區(qū)域的部分和存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn),
其中,所述感光區(qū)域的底部的寬度大于所述感光區(qū)域的上部的寬度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像傳感器結(jié)構(gòu),還包括:
光屏蔽層,形成在所述襯底的背側(cè)處。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像傳感器結(jié)構(gòu),還包括:
覆蓋層,形成在所述襯底的前側(cè)上方以覆蓋所述感光區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的圖像傳感器結(jié)構(gòu),還包括:
阻擋結(jié)構(gòu),與所述覆蓋層和所述前側(cè)隔離結(jié)構(gòu)直接接觸。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的圖像傳感器結(jié)構(gòu),還包括:
柵極結(jié)構(gòu),形成在所述襯底的前側(cè)上;
其中,所述存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)形成為鄰近所述柵極結(jié)構(gòu),
其中,所述柵極結(jié)構(gòu)的一部分與所述感光區(qū)域重疊。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像傳感器結(jié)構(gòu),其中,所述第一材料形成在所述第二材料之上。
7.一種圖像傳感器結(jié)構(gòu),包括:
襯底,具有前側(cè)和背側(cè);
感光區(qū)域,形成在所述襯底中;
前側(cè)隔離結(jié)構(gòu),由第一材料制成,所述第一材料在所述襯底的前側(cè)處部分地圍繞在所述感光區(qū)域;
背側(cè)隔離結(jié)構(gòu),由第二材料制成,所述第二材料在所述襯底的背側(cè)處完全圍繞所述感光區(qū)域;
柵極結(jié)構(gòu),形成在所述襯底的前側(cè)上;
覆蓋層,形成在所述襯底的前側(cè)上方以覆蓋所述感光區(qū)域和所述柵極結(jié)構(gòu);
其中,所述第一材料是介電材料,并且所述第二材料是金屬,以及所述第一材料與所述第二材料直接接觸。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的圖像傳感器結(jié)構(gòu),其中,所述前側(cè)隔離結(jié)構(gòu)具有開口區(qū)域,使得所述感光區(qū)域的一部分未被所述前側(cè)隔離結(jié)構(gòu)圍繞。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的圖像傳感器結(jié)構(gòu),還包括:
存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn),形成在所述襯底的前側(cè)處,
其中,所述存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)形成為鄰近所述前側(cè)隔離結(jié)構(gòu)的開口區(qū)域。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的圖像傳感器結(jié)構(gòu),還包括:
存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn),形成在所述襯底的前側(cè)處,其中,所述存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)未與所述前側(cè)隔離結(jié)構(gòu)的開口區(qū)域?qū)?zhǔn)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的圖像傳感器結(jié)構(gòu),還包括:
導(dǎo)電結(jié)構(gòu),形成在所述襯底的前側(cè)上方,
其中,所述存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)和所述感光區(qū)域通過所述導(dǎo)電結(jié)構(gòu)連接。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的圖像傳感器結(jié)構(gòu),還包括:
中間區(qū)域,形成在所述襯底中,其中,所述感光區(qū)域形成在所述中間區(qū)域的一側(cè)處,并且所述存儲(chǔ)節(jié)點(diǎn)形成在所述中間區(qū)域的另一側(cè)處。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的圖像傳感器結(jié)構(gòu),還包括:
第二光電二極管區(qū)域,形成為鄰近所述前側(cè)隔離結(jié)構(gòu)的開口區(qū)域,
其中,所述感光區(qū)域包括第一光電二極管區(qū)域,并且所述第一光電二極管區(qū)域和所述第二光電二極管區(qū)域形成在所述前側(cè)隔離結(jié)構(gòu)的開口區(qū)域的相對(duì)側(cè)處。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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