[發明專利]圖像傳感器及其制造方法

有效

• 申請號: 201610911713.2
• 申請日: 2016-10-20
• 公開（公告）號: CN107039471B
• 公開（公告）日: 2022-04-19
• 發明（設計）人: 山下雄一郎;莊君豪;角博文
• 申請（專利權）人: 臺灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號: H01L27/146
• 分類號: H01L27/146
• 代理公司: 北京德恒律治知識產權代理有限公司 11409
• 代理人: 章社杲;李偉

1.一種圖像傳感器結構，包括：

襯底，具有前側和背側；

感光區域，形成在所述襯底中；

前側隔離結構，形成在所述襯底的前側處；

背側隔離結構，形成在所述襯底的背側處并且圍繞所述感光區域；以及

存儲節點，形成在所述襯底的鄰近所述感光區域的前側處并且垂直地嵌入在所述襯底的前側和所述背側隔離結構之間的位置處，并且所述存儲節點與所述背側隔離結構垂直重疊，

其中，所述前側隔離結構由第一材料制成并且所述背側隔離結構由不同于所述第一材料的第二材料制成，并且所述第二材料圍繞所述感光區域，

其中，所述前側隔離結構形成為在所述感光區域周圍并且具有開口，使得未通過所述前側隔離結構隔離所述感光區域的部分和存儲節點，

其中，所述感光區域的底部的寬度大于所述感光區域的上部的寬度。

2.根據權利要求1所述的圖像傳感器結構，還包括：

光屏蔽層，形成在所述襯底的背側處。

3.根據權利要求1所述的圖像傳感器結構，還包括：

覆蓋層，形成在所述襯底的前側上方以覆蓋所述感光區域。

4.根據權利要求3所述的圖像傳感器結構，還包括：

阻擋結構，與所述覆蓋層和所述前側隔離結構直接接觸。

5.根據權利要求3所述的圖像傳感器結構，還包括：

柵極結構，形成在所述襯底的前側上；

其中，所述存儲節點形成為鄰近所述柵極結構，

其中，所述柵極結構的一部分與所述感光區域重疊。

6.根據權利要求1所述的圖像傳感器結構，其中，所述第一材料形成在所述第二材料之上。

7.一種圖像傳感器結構，包括：

襯底，具有前側和背側；

感光區域，形成在所述襯底中；

前側隔離結構，由第一材料制成，所述第一材料在所述襯底的前側處部分地圍繞在所述感光區域；

背側隔離結構，由第二材料制成，所述第二材料在所述襯底的背側處完全圍繞所述感光區域；

柵極結構，形成在所述襯底的前側上；

覆蓋層，形成在所述襯底的前側上方以覆蓋所述感光區域和所述柵極結構；

其中，所述第一材料是介電材料，并且所述第二材料是金屬，以及所述第一材料與所述第二材料直接接觸。

8.根據權利要求7所述的圖像傳感器結構，其中，所述前側隔離結構具有開口區域，使得所述感光區域的一部分未被所述前側隔離結構圍繞。

9.根據權利要求8所述的圖像傳感器結構，還包括：

存儲節點，形成在所述襯底的前側處，

其中，所述存儲節點形成為鄰近所述前側隔離結構的開口區域。

10.根據權利要求8所述的圖像傳感器結構，還包括：

存儲節點，形成在所述襯底的前側處，其中，所述存儲節點未與所述前側隔離結構的開口區域對準。

11.根據權利要求10所述的圖像傳感器結構，還包括：

導電結構，形成在所述襯底的前側上方，

其中，所述存儲節點和所述感光區域通過所述導電結構連接。

12.根據權利要求10所述的圖像傳感器結構，還包括：

中間區域，形成在所述襯底中，其中，所述感光區域形成在所述中間區域的一側處，并且所述存儲節點形成在所述中間區域的另一側處。

13.根據權利要求10所述的圖像傳感器結構，還包括：

第二光電二極管區域，形成為鄰近所述前側隔離結構的開口區域，

其中，所述感光區域包括第一光電二極管區域，并且所述第一光電二極管區域和所述第二光電二極管區域形成在所述前側隔離結構的開口區域的相對側處。