[發明專利]一種真空滅弧室觸頭結構

在審

• 申請號: 201610907133.6
• 申請日: 2016-10-17
• 公開（公告）號: CN106653467A
• 公開（公告）日: 2017-05-10
• 發明（設計）人: 王清華;周倜
• 申請（專利權）人: 湖北大禹漢光真空電器有限公司
• 主分類號: H01H33/664
• 分類號: H01H33/664
• 代理公司: 武漢河山金堂專利事務所(普通合伙)42212
• 代理人: 胡清堂

技術領域

本發明涉及電氣設備技術，尤其是涉及一種真空滅弧室觸頭結構。

背景技術

真空滅弧室作為中高壓電力開關的核心部件，其主要作用是切斷電源后迅速熄滅電弧抑制電流，避免合閘引起意外發生，而觸頭是產生電弧、熄滅電弧的核心部件，觸頭主要為動觸頭和靜觸頭。觸頭在使用初期，一般均采用平板觸頭，但是平板觸頭在相同直徑下接觸面積和燃弧面積較小，易導致電弧擴散性差，而且觸頭多次接觸、閉合易導致接觸面變形、接觸不良等問題。

發明內容

本發明的目的在于克服上述技術不足，提出一種真空滅弧室觸頭結構，解決現有技術中接觸面積和燃弧面積導致電弧擴散性差的技術問題。

為達到上述技術目的，本發明的技術方案提供一種真空滅弧室觸頭結構，包括靜觸頭和動觸頭，所述動觸頭相對所述靜觸頭一側形成有球形凸面，所述靜觸頭相對所述動觸頭一側形成一與所述球形凸面相配合的球形凹面；其中，所述球形凸面上設置有多個外凹槽，所述球形凹面上設置有多個內凹槽。

優選的，每個所述外凹槽和內凹槽分別沿所述球形凸面和球形凹面呈螺旋狀布置。

優選的，所述外凹槽和內凹槽的橫截面均呈弧形，且所述外凹槽和內凹槽的邊緣分別與所述球形凸面和球形凹面平滑過渡。

優選的，多個所述外凹槽與多個所述內凹槽相對應設置。

與現有技術相比，本發明一方面將動觸頭和靜觸頭分別設置為球形凸面和球形凹面，其增加了動觸頭和靜觸頭的接觸面積和燃弧面積，其有利于提高電弧的擴散；另一方面在球形凸面和球形凹面上分別設置外凹槽和內凹槽，其進一步的增加了燃弧面積。

附圖說明

圖1是本發明的真空滅弧室觸頭結構的連接示意圖；

圖2是本發明的外凹槽的分布示意圖；

圖3是本發明的內凹槽的分布示意圖；

圖4是本發明的外凹槽的剖視圖；

圖5是本發明的內凹槽的剖視圖。

具體實施方式

為了使本發明的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本發明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明，并不用于限定本發明。

請參閱圖1～5，本發明的實施例提供了一種真空滅弧室觸頭結構，包括靜觸頭2和動觸頭1，所述動觸頭1相對所述靜觸頭2一側形成有球形凸面11，所述靜觸頭2相對所述動觸頭1一側形成一與所述球形凸面11相配合的球形凹面21；其中，所述球形凸面11上設置有多個外凹槽111，所述球形凹面21上設置有多個內凹槽211。

如圖1所示，本實施例動觸頭1的球形凸面11配合抵接于靜觸頭2的球形凹面21，其增加了動觸頭1與靜觸頭2的接觸面積和燃弧面積，有利于電弧的擴散，同時設置為球形凸面11和球形凹面21有利于提高其接觸的緊密性，降低其變形的幾率。而且在設置時，球形凸面11上的多個外凹槽111可與球形凹面21上的多個內凹槽211相對應設置，也可相錯位設置，本實施例優選將多個外凹槽111與多個內凹槽211相對應設置，其有利于增加球形凸面11和球形凹面21的接觸面積。

如圖2、圖3所示，本實施例每個所述外凹槽111和內凹槽211分別沿所述球形凸面11和球形凹面21呈螺旋狀布置，其增加了外凹槽111和內凹槽211的長度，進一步的增加了燃弧面積，而且也有利于動觸頭1和靜觸頭2的散熱效率。

如圖4、圖5所示，為了避免外凹槽111和內凹槽211邊緣形成尖端放電，本實施例所述外凹槽111和內凹槽211的橫截面均呈弧形，且所述外凹槽111和內凹槽211的邊緣分別與所述球形凸面11和球形凹面21平滑過渡，其也有利于增加燃弧面積。

與現有技術相比，本發明一方面將動觸頭1和靜觸頭2分別設置為球形凸面11和球形凹面21，其增加了動觸頭1和靜觸頭2的接觸面積和燃弧面積，其有利于提高電弧的擴散；另一方面在球形凸面11和球形凹面21上分別設置外凹槽111和內凹槽211，其進一步的增加了燃弧面積。

以上所述本發明的具體實施方式，并不構成對本發明保護范圍的限定。任何根據本發明的技術構思所做出的各種其他相應的改變與變形，均應包含在本發明權利要求的保護范圍內。