[發明專利]一種基于天線方向圖修正計算目標RCS的方法有效
| 申請號: | 201610903006.9 | 申請日: | 2016-10-17 |
| 公開(公告)號: | CN106526562B | 公開(公告)日: | 2019-01-11 |
| 發明(設計)人: | 胡楚鋒;徐志浩;陳衛軍;張麟兮 | 申請(專利權)人: | 西北工業大學 |
| 主分類號: | G01S7/41 | 分類號: | G01S7/41 |
| 代理公司: | 西北工業大學專利中心 61204 | 代理人: | 常威威 |
| 地址: | 710072 *** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 天線方向圖 近場 計算目標 回波 修正 成像 方向圖函數 散射特性 微波成像 復雜度 散射 二維 構建 減小 遠場 近似 借用 | ||
1.一種基于天線方向圖修正計算目標RCS的方法,其特征在于步驟如下:
步驟一:確定近似的天線方向圖:
在天線照射目標角域內,利用三角函數10A·((B*cos(Cψ)-B)/10)對測試天線的方向圖函數進行近似,通過改變A、B、C的值得到近似的天線方向圖函數A(ψ),滿足近似誤差小于0.5dB;其中,ψ為天線到目標上任意一點與天線最大輻射方向的夾角;
步驟二:構建預處理數據:
首先,在微波暗室中對目標進行單站轉臺測量,并考慮天線方向圖影響,得到目標的單站近場回波散射為:
其中,為以轉臺中心為原點的極坐標系下天線的轉角,k為波數,按k=2πf/c計算,f為天線的測試頻率,c為光速,為目標區域的二維像,為目標上任意一點的極坐標,ρ′表示這個點到轉臺中心的距離,表示這個點在極坐標系下的角度,為天線到點的距離,ρ0為天線到轉臺中心的距離;
然后,按下式構建目標的預處理數據為:
其中,表示成像距離,Δf是轉臺測量的步進頻率;
步驟三:計算單站遠場散射方向圖:
根據目標的預處理數據,按下式計算目標的單站遠場散射方向圖為:
其中,N≥2kaant+10,為目標單站模式下的截取范圍,aant為柱坐標下包圍目標的最小半徑,Pn(2kρ0)為天線的響應恒量,按計算,M≥2kaant,為第一類n+m階漢克爾函數,T是近似天線方向圖函數A(ψ)的周期;
步驟四:計算定標體的單站遠場散射方向圖:以定標體為目標,重復步驟二和三,計算得到定標體的單站遠場散射方向圖
步驟五:計算目標的RCS:
根據目標和定標體的單站遠場散射方向圖,由下式定標計算得到目標的RCS:
其中,σ為目標的RCS,σ0為定標體的RCS。
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