[發明專利]一種碲鋅鎘襯底、制備方法及其應用在審
| 申請號： | 201610899727.7 | 申請日： | 2016-10-14 |
| 公開（公告）號： | CN106505111A | 公開（公告）日： | 2017-03-15 |
| 發明（設計）人： | 林國畫;陳慧卿;張敏;梁宗久;寧提 | 申請（專利權）人： | 中國電子科技集團公司第十一研究所 |
| 主分類號： | H01L31/0236 | 分類號： | H01L31/0236 |
| 代理公司： | 工業和信息化部電子專利中心11010 | 代理人： | 張然 |
| 地址： | 100015*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 碲鋅鎘 襯底 制備 方法 及其 應用 | ||
【說明書】：
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H01 基本電氣元件
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射，或微粒輻射敏感的，并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的，或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件；專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的，例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的，一個或多個電光源，如場致發光光源在結構上相連的，并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的
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