[發(fā)明專(zhuān)利]一種用于薄膜蒸鍍的裝置

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610895846.5
• 申請(qǐng)日: 2016-10-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107955935A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-04-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 董國(guó)材;唐琪雯;張祥
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 江南石墨烯研究院;常州碳維納米科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/24
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/24;C23C14/18
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種用于蒸鍍的裝置，其特征在于，所述裝置由真空腔體（1）、蒸發(fā)源（2）、樣品臺(tái)（4）、冷凝裝置、真空獲得裝置、供氣裝置及插板閥（14）組成。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于蒸鍍的裝置，其特征在于：所述的真空腔體（1）通過(guò)真空獲得裝置達(dá)到真空狀態(tài)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于蒸鍍的裝置，其特征在于：所述的蒸發(fā)源（2）通過(guò)CF法蘭接口與真空腔體（1）連接，最高可加熱至1900℃，坩堝（3）用于放置待蒸鍍樣品，體積最高可達(dá) 5 ml。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于蒸鍍的裝置，其特征在于：所述的樣品臺(tái)（4）用于放置基底材料（5），坩堝（3）內(nèi)的待蒸鍍樣品加熱后蒸鍍至基底材料（5）表面。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于蒸鍍的裝置，其特征在于：所述的冷凝裝置由循環(huán)水機(jī)（6）、過(guò)濾裝置（7）組成，為分子泵提供循環(huán)冷凝水以降溫分子泵的工作溫度。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于蒸鍍的裝置，其特征在于：所述的真空獲得裝置包括機(jī)械泵（8）、分子泵（9），分子泵（9）通過(guò)CF接口與真空腔體（1）連接，另一端使用KF接口通過(guò)波紋管與機(jī)械泵（8）連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于蒸鍍的裝置，其特征在于：所述的供氣裝置包括減壓閥（10）、微漏閥（11）、真空計(jì)（12）、氣源（13）。

8.減壓閥連接導(dǎo)氣管，導(dǎo)氣管連接微漏閥，通過(guò)微漏閥的精確調(diào)節(jié)，氣體進(jìn)入真空腔體（1）。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于蒸鍍的裝置，其特征在于：所述的插板閥（14）可以為手動(dòng)、氣動(dòng)、或電動(dòng)插板閥，兩面分別通過(guò)CF接口與真空腔體（1）和分子泵相連，實(shí)現(xiàn)隔絕與串通腔體和分子泵的功能。