[發(fā)明專利]提高納米多孔硅物理微結(jié)構(gòu)和光學(xué)特性穩(wěn)定性的新方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610889553.6 | 申請日： | 2016-10-12 |
| 公開（公告）號： | CN106517080B | 公開（公告）日： | 2018-07-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 龍永福 | 申請（專利權(quán)）人： | 湖南文理學(xué)院 |
| 主分類號： | B81C1/00 | 分類號： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 常德市源友專利代理事務(wù)所 43208 | 代理人： | 江妹 |
| 地址： | 415000 湖南省*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光學(xué)特性 多孔硅 微結(jié)構(gòu) 制備 過氧乙酸 多孔硅內(nèi)表面 多孔硅薄膜 多孔硅材料 多孔硅微腔 方波信號源 納米多孔硅 多層器件 多孔硅膜 光子器件 硅懸空鍵 氧化處理 多層膜 均勻性 內(nèi)表面 氧原子 厚膜 氫鍵 氧鍵 置換 探索 | ||
【權(quán)利要求書】：
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