[發明專利]一種化學機械研磨方法

在審

• 申請號: 201610886288.6
• 申請日: 2016-10-11
• 公開（公告）號: CN107914211A
• 公開（公告）日: 2018-04-17
• 發明（設計）人: 唐強;孫濤
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司;中芯國際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類號: B24B37/005
• 分類號: B24B37/005
• 代理公司: 北京市磐華律師事務所11336
• 代理人: 董巍,高偉

1.一種化學機械研磨方法，用于拋光金屬鎢，其特征在于，包括以下步驟：提供待研磨晶圓；第一研磨臺的研磨液供應管提供金屬鎢研磨液對所述晶圓進行研磨；第二研磨臺的研磨液供應管提供金屬鎢研磨液對所述晶圓進行研磨，其中，至少所述第一研磨臺和/或所述第二研磨臺的研磨液供應管還提供氧化物研磨液。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括第三研磨臺的研磨液供應管提供第三研磨液對所述晶圓進行研磨。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述第三研磨液包括氧化物研磨液。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述金屬鎢研磨液和氧化物研磨液是由不同的研磨液供應管提供的。

5.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述金屬鎢研磨液包括：酸性溶液、研磨顆粒和鐵系催化劑。

6.根據權利要求1‐3之一所述的方法，其特征在于，所述氧化物研磨液包括：堿性溶液、研磨顆粒、pH緩沖液和氧化劑。

7.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述鐵系催化劑包括硝酸鐵和處于納米膠體狀態的硅鐵。

8.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述氧化劑包括過氧化氫或鹵酸鹽。

9.根據權利要求1‐3之一所述的方法，其特征在于，所述金屬鎢研磨液的pH為2‐4，所述氧化物研磨液的pH為10‐12。

10.根據權利要求1‐3之一所述的方法，其特征在于，所述金屬鎢研磨液的流量為190-200ml/min，所述氧化物研磨液的流量為140-150ml/min。

11.根據權利要求1‐3之一所述的方法，其特征在于，所述金屬鎢研磨液的固含量小于4％，所述氧化物研磨液的固含量大于12％。