[發(fā)明專利]轉(zhuǎn)印薄膜及透明層疊體、它們的制造方法、靜電電容型輸入裝置以及圖像顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610885220.6 | 申請日: | 2013-11-21 |
| 公開(公告)號: | CN107031222B | 公開(公告)日: | 2019-02-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 漢那慎一;伊藤英明 | 申請(專利權(quán))人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | B41M5/025 | 分類號: | B41M5/025;B32B27/08;B32B37/00;B32B38/00 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 龐東成;褚瑤楊 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 透明樹脂層 固化性 轉(zhuǎn)印薄膜 折射率 靜電電容型輸入裝置 圖像顯示裝置 透明層疊體 臨時支承體 相鄰配置 制造 | ||
1.一種轉(zhuǎn)印薄膜,其中,其依次具有:
臨時支承體;
第1固化性透明樹脂層;及
第2固化性透明樹脂層,與所述第1固化性透明樹脂層相鄰配置,
所述第1固化性透明樹脂層的膜厚為1μm以上,
所述第2固化性透明樹脂層的折射率高于所述第1固化性透明樹脂層的折射率,
所述第2固化性透明樹脂層的折射率為1.6以上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)印薄膜,其中,所述第1固化性透明樹脂層的膜厚為1μm~10μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的轉(zhuǎn)印薄膜,其中,所述第2固化性透明樹脂層的膜厚為500nm以下。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的轉(zhuǎn)印薄膜,其中,所述第2固化性透明樹脂層的膜厚為100nm以下。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的轉(zhuǎn)印薄膜,其中,所述第1固化性透明樹脂層的折射率為1.5~1.53。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的轉(zhuǎn)印薄膜,其中,所述第2固化性透明樹脂層的折射率為1.65以上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的轉(zhuǎn)印薄膜,其中,所述第1固化性透明樹脂層含有可聚合化合物和光聚合性引發(fā)劑。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的轉(zhuǎn)印薄膜,其中,所述第1固化性透明樹脂層含有堿可溶性樹脂、可聚合化合物和光聚合性引發(fā)劑。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的轉(zhuǎn)印薄膜,其中,所述第1固化性透明樹脂層的雙鍵消耗率為10%以上。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的轉(zhuǎn)印薄膜,其中,所述第2固化性透明樹脂層含有折射率為1.55以上的微粒。
11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的轉(zhuǎn)印薄膜,其中,所述第2固化性透明樹脂層包含可聚合化合物。
12.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的轉(zhuǎn)印薄膜,其中,所述第1固化性透明樹脂層及所述第2固化性透明樹脂層均為熱固化性樹脂層。
13.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的轉(zhuǎn)印薄膜,其中,在所述臨時支承體與所述第1固化性透明樹脂層之間具有熱塑性樹脂層。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的轉(zhuǎn)印薄膜,其中,在所述第1固化性透明樹脂層與所述熱塑性樹脂層之間還具有中間層。
15.一種轉(zhuǎn)印薄膜的制造方法,其中,所述制造方法具有以下工序;
(b)在臨時支承體上形成包含可聚合化合物及光聚合性引發(fā)劑的第1固化性透明樹脂層的工序;
(c)通過曝光,固化所述第1固化性透明樹脂層的工序;及
(d)在固化后的所述第1固化性透明樹脂層上直接形成第2固化性透明樹脂層的工序,
所述第1固化性透明樹脂層的膜厚為1μm以上,
所述第2固化性透明樹脂層的折射率高于所述第1固化性透明樹脂層的折射率,
所述第2固化性透明樹脂層的折射率為1.6以上。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的轉(zhuǎn)印薄膜的制造方法,其中,在所述臨時支承體上形成所述第1固化性透明樹脂層之前,還包含(a)在所述臨時支承體上形成熱塑性樹脂層的工序。
17.一種透明層疊體的制造方法,其中,所述制造方法包含在透明電極圖案上依次層疊權(quán)利要求1~14中任一項所述的轉(zhuǎn)印薄膜的所述第2固化性透明樹脂層及所述第1固化性透明樹脂層的工序。
18.一種透明層疊體,其是通過權(quán)利要求17所述的制造方法制造的。
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