[發明專利]測量裝置和測量方法

有效

• 申請號: 201610878425.1
• 申請日: 2016-10-08
• 公開（公告）號: CN107085117B
• 公開（公告）日: 2021-05-11
• 發明（設計）人: 托馬斯·阿爾伯;約阿希姆·阿爾貝特;拉爾夫·施托伊爾瓦爾德;邁克爾·漢克;安哥拉·奧比施
• 申請（專利權）人: 恩德萊斯和豪瑟爾分析儀表兩合公司
• 主分類號: G01N35/00
• 分類號: G01N35/00;G01N21/31;G01N27/416;G01N27/42
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 戚傳江;金潔

1.一種測量裝置，用于確定包含在處理容器中的測量介質的至少一個被測變量，包括：

-第一測量設備，該第一測量設備具有集成于所述處理容器內的第一在線測量傳感器，該第一在線測量傳感器與所述測量介質相接觸以檢測所述至少一個被測變量的測量值，并且該第一測量設備被設計成借由所述第一在線測量傳感器來確定第一測量值，第一測量值取決于包含在所述處理容器中的所述測量介質的所述至少一個被測變量；

-取樣設備，該取樣設備被設計成從所述測量介質中取出樣本；

-第二測量設備，該第二測量設備包括第二測量傳感器并且被設計成借由所述第二測量傳感器來確定第二測量值，第二測量值取決于從所述測量介質中所取出的所述樣本的所述至少一個被測變量，其中所述第二測量設備是布置于所述處理容器之外的自動化分析器，并且所述分析器被連接至所述取樣設備，用于將由所述取樣設備從所述處理容器采取的所述測量介質的樣本進給至所述第二測量設備，其中所述分析器被設計成預處理所述樣本，并且其中所述第二測量傳感器被設計成記錄經預處理的樣本的附加被測變量的測量值，該附加被測變量的測量值取決于待確定的被測變量；以及

-電子控制裝置，該電子控制裝置包括多個接口，其經由所述多個接口而被連接至所述第一測量設備和所述第二測量設備以便通信，所述電子控制裝置被設計成接收和處理所述第一和第二測量值并且使用所述第二測量值對所述第一測量設備進行校驗、校準和/或調節。

2.根據權利要求1所述的測量裝置，

其中，所述測量介質是測量液。

3.根據權利要求1所述的測量裝置，

其中，所述測量介質被包含于處理容器中，

其中，所述取樣設備被設計成從所述處理容器中移出取自所述測量介質的所述樣本，并且

其中，所述第二測量設備被布置于所述處理容器之外并且被設計成確定從所述處理容器中所移取的所述樣本的所述至少一個被測變量的所述第二測量值。

4.根據權利要求1-3中任一項所述的測量裝置，

其中，所述至少一個被測變量為分析被測變量，所述分析被測變量是所述測量介質中的被分析物的濃度或活性或者取決于所述測量介質中的一個或多個被分析物的濃度或活性的被測變量。

5.根據權利要求1至3中任一項所述的測量裝置，

其中，所述第一測量傳感器為光度測定或光譜測定型光學在線測量傳感器或者電化學在線測量傳感器。

6.根據權利要求1至3中任一項所述的測量裝置，

其中，所述第一測量設備包括接口，其借由該接口可連接至電子處理控制器，該電子處理控制器被設計成使用由所述第一測量設備所提供的、所述至少一個被測變量的所述第一測量值來控制所述處理容器中正執行的過程，或者控制包括所述處理容器的處理系統中正執行的過程。

7.根據權利要求1所述的測量裝置，

其中，所述第二測量設備是自動化分析設備，該自動化分析設備被設計成預處理取自所述處理容器的所述樣本，并且

其中，所述第二測量傳感器被設計成檢測經預處理的樣本的另一被測變量的測量值，該測量值取決于待確定或監視的至少一個被測變量。

8.根據權利要求7所述的測量裝置，

其中，化學反應產物通過對所述樣本的所述預處理來形成，并且其中，所述另一被測變量為所述化學反應產物的濃度或者取決于該濃度的變量。

9.根據權利要求1至3中任一項所述的測量裝置，

其中，所述第二測量傳感器具有輻射檢測器，包括至少一個光度檢測器，所述光度檢測器被設計成確定通過特別經預處理的樣本的亮度所發射的至少一個發光輻射，或者從穿過特別經預處理的樣本所透射的測量輻射所推導出的原始值。

10.根據權利要求1至3中任一項所述的測量裝置，

其中，所述第二測量設備被設計成以比所述第一測量設備更低的測量頻率確定和輸出測量值。