[發明專利]拼接圖像校驗方法及裝置、X射線攝影系統

在審

• 申請號: 201610877463.5
• 申請日: 2016-09-30
• 公開（公告）號: CN106600575A
• 公開（公告）日: 2017-04-26
• 發明（設計）人: 胡揚;牛杰;滕萬里
• 申請（專利權）人: 上海聯影醫療科技有限公司
• 主分類號: G06T7/00
• 分類號: G06T7/00;G06T3/40;H04N5/32
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種拼接圖像校驗方法，其特征在于，包括：

獲取所述拼接圖像中的重疊區域，所述拼接圖像由第一圖像和第二圖像拼接獲得；

對第三圖像和第四圖像以預設尺寸進行圖像分塊，所述第三圖像為所述第一圖像中的重疊區域，所述第四圖像為所述第二圖像中的重疊區域；

對所述第三圖像的第一圖像塊集和所述第四圖像的第二圖像塊集進行匹配以生成初始匹配塊對集，第一圖像塊集是指所述第三圖像中為非直接曝光區域的圖像塊的集合，第二圖像塊集是指所述第四圖像中為非直接曝光區域的圖像塊的集合；

若匹配塊對的個數大于預設的閾值，則所述拼接圖像拼接正確，所述匹配塊對是指第一圖像塊和第二圖像塊位置相同的初始匹配塊對。

2.如權利要求1所述的拼接圖像校驗方法，其特征在于，所述第一圖像塊集通過以下方式確定：

生成與所述第三圖像對應的第三模板，所述第三模板示出了所述第三圖像中的直接曝光區域和非直接曝光區域；

生成與所述第四圖像對應的第四模板，所述第四模板示出了所述第四圖像中的直接曝光區域和非直接曝光區域；

取所述第三模板和所述第四模板的交集以獲得模板；

對所述模板以所述預設尺寸進行分塊，基于所述模板中的分塊信息確定所述第三圖像中的圖像塊是否為所述第一圖像塊。

3.如權利要求1所述的拼接圖像校驗方法，其特征在于，所述第二圖像塊集通過以下方式確定：

生成與所述第三圖像對應的第三模板，所述第三模板示出了所述第三圖像中的直接曝光區域和非直接曝光區域；

生成與所述第四圖像對應的第四模板，所述第四模板示出了所述第四圖像中的直接曝光區域和非直接曝光區域；

取所述第三模板和所述第四模板的交集以獲得模板；

對所述模板以所述預設尺寸進行分塊，基于所述模板中的分塊信息確定所述第四圖像中的圖像塊是否為所述第二圖像塊。

4.如權利要求1所述的拼接圖像校驗方法，其特征在于，對所述第三圖像的第一圖像塊集和所述第四圖像的第二圖像塊集進行基于特征向量的匹配以生成初始匹配塊對集。

5.如權利要求1所述的拼接圖像校驗方法，其特征在于，對所述第三圖像的第一圖像塊集和所述第四圖像的第二圖像塊集進行基于特征向量的雙向匹配以生成初始匹配塊對集。

6.如權利要求5所述的拼接圖像校驗方法，其特征在于，對所述第三圖像的第一圖像塊集和所述第四圖像的第二圖像塊集進行基于特征向量的雙向匹配以生成初始匹配塊對集包括：

以所述第一圖像塊集中的每一個第一圖像塊的特征向量與所述第二圖像塊集中的第二圖像塊的特征向量之間的最小歐式距離與次小歐式距離的比為第一比值；

在所述第一比值小于第一閾值時，以與所述最小歐式距離對應的所述第一圖像塊和所述第二圖像塊為第一匹配塊對，生成以該第一匹配塊對為元素的第一匹配塊對集；

以所述第二圖像塊集中的每一個第二圖像塊的特征向量與所述第一圖像塊集中的第一圖像塊的特征向量之間的最小歐式距離與次小歐式距離的比為第二比值；

在所述第二比值小于第二閾值時，以與所述最小歐式距離對應的所述第第二圖像塊和所述第一圖像塊為第二匹配塊對，生成以該第二匹配塊對為元素的第二匹配塊對集；

取所述第一匹配塊對集和所述第二匹配塊對集的交集以獲得所述第三圖像和所述第四圖像的初始匹配塊對集。

7.如權利要求1所述的拼接圖像校驗方法，其特征在于，所述預設的閾值的范圍為1～50。

8.一種拼接圖像校驗裝置，其特征在于，包括：

重疊區域確定單元，用于獲取所述拼接圖像中的重疊區域，所述拼接圖像由第一圖像和第二圖像拼接獲得；

分塊單元，用于對第三圖像和第四圖像以預設尺寸進行圖像分塊，所述第三圖像為所述第一圖像中的重疊區域，所述第四圖像為所述第二圖像中的重疊區域；

匹配單元，用于對所述第三圖像的第一圖像塊集和所述第四圖像的第二圖像塊集進行匹配以生成初始匹配塊對集，第一圖像塊集是指所述第三圖像中為非直接曝光區域的圖像塊的集合，第二圖像塊集是指所述第四圖像中為非直接曝光區域的圖像塊的集合；

判斷單元，用于在匹配塊對的個數大于預設的閾值時，判斷所述拼接圖像拼接正確，所述匹配塊對是指第一圖像塊和第二圖像塊位置相同的初始匹配塊對。

9.一種X射線攝影系統，其特征在于，包括權利要求8所述的拼接圖像校驗裝置。