[發明專利]正電子發射斷層成像系統飛行時間性能檢測方法及裝置有效
| 申請號： | 201610877357.7 | 申請日： | 2016-09-30 |
| 公開（公告）號： | CN106353786B | 公開（公告）日： | 2019-06-28 |
| 發明（設計）人： | 鄧子林 | 申請（專利權）人： | 上海聯影醫療科技有限公司 |
| 主分類號： | G01T1/29 | 分類號： | G01T1/29;G01T7/00 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人： | 駱希聰 |
| 地址： | 201807 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 正電子 發射 斷層 成像 系統 飛行 時間 性能 檢測 方法 裝置 | ||
【說明書】：
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