[發明專利]一種大視場曝光系統

有效

• 申請號: 201610876749.1
• 申請日: 2016-09-30
• 公開（公告）號: CN107885041B
• 公開（公告）日: 2019-08-23
• 發明（設計）人: 孫晶露;郭銀章
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種大視場曝光系統，其特征在于，包括沿光路依次設置的光源、照明模塊、掩模臺、投影物鏡模塊和工件臺，所述投影物鏡模塊由若干子投影物鏡單元沿非掃描方向拼接而成，每個所述子投影物鏡單元包括平板、楔板和透鏡，所述平板、楔板和透鏡由負折射率材料或在曝光波段折射率為負的材料制成。

2.根據權利要求1所述的大視場曝光系統，其特征在于，每個所述子投影物鏡單元包括兩個楔板、兩個平板和兩個透鏡依次排列而成，其中兩個所述楔板相對設置，兩個所述透鏡之間設有空氣間隙。

3.根據權利要求1所述的大視場曝光系統，其特征在于，每個所述子投影物鏡單元包括兩個平板、三個透鏡和兩個楔板依次排列而成，其中三個所述透鏡兩兩之間均設有空氣間隙，兩個所述楔板相對設置。

4.根據權利要求2或3所述的大視場曝光系統，其特征在于，兩個所述楔板之間沿楔面方向相對運動以調節物面和像面的共軛距。

5.根據權利要求2或3所述的大視場曝光系統，其特征在于，其中一個所述楔板繞X軸旋轉以改變像面在Y方向的倍率，繞Z軸旋轉以改變像面在Y方向的傾斜角度。

6.根據權利要求2或3所述的大視場曝光系統，其特征在于，兩個所述平板繞X軸旋轉以改變像面在Y方向的水平位置，繞Y軸旋轉以改變像面在X方向的水平位置。

7.根據權利要求2或3所述的大視場曝光系統，其特征在于，相鄰兩個所述透鏡之間的空氣間隙沿Z方向發生變化以改變子投影物鏡單元的倍率。

8.根據權利要求1所述的大視場曝光系統，其特征在于，每個所述子投影物鏡單元包括一側為平面另一側為球面的第一透鏡、雙側均為球面的第二透鏡、一面為球面另一面為楔形平面的第三透鏡、楔板和平板依次排列而成。

9.根據權利要求8所述的大視場曝光系統，其特征在于，所述第一透鏡和第二透鏡相對一側的球面的曲率半徑對應，所述第二透鏡和第三透鏡相對一側的球面的曲率半徑對應。

10.根據權利要求9所述的大視場曝光系統，其特征在于，所述第一透鏡和第三透鏡為平凸透鏡或平凹透鏡。

11.根據權利要求9所述的大視場曝光系統，其特征在于，所述第二透鏡為雙凹透鏡或雙凸透鏡或彎月透鏡。

12.根據權利要求8所述的大視場曝光系統，其特征在于，所述第一透鏡、第二透鏡、第三透鏡兩兩之間的空氣間隙沿Z方向發生變化以改變子投影物鏡單元的倍率。

13.根據權利要求8所述的大視場曝光系統，其特征在于，所述楔板繞X軸旋轉以改變像面在Y方向的倍率，繞Z軸旋轉以改變像面在Y方向的傾斜角度。

14.根據權利要求8所述的大視場曝光系統，其特征在于，所述平板繞X軸旋轉以改變像面在Y方向的水平位置，繞Y軸旋轉以改變像面在X方向的水平位置。

15.根據權利要求1所述的大視場曝光系統，其特征在于，所述投影物鏡模塊的縱截面為矩形結構，所述矩形的高度D與物距d₁，像距d₂，負折射材料折射率n’及入射光半角θ₁之間的關系為